等離子體與晶片表面的二氧化硅層表面相互作用后,重慶光學(xué)等離子清洗機哪里好活性原子和高能電子破壞了原有的硅氧鍵結(jié)構(gòu),使其成為非橋鍵。(C) 然后,為了將電子與活性原子的結(jié)合能向更高能量方向轉(zhuǎn)移,表面有許多懸空鍵,而這些懸空鍵以鍵合OH基的形式存在。結(jié)構(gòu)穩(wěn)定。在有機或無機堿中浸泡并在特定溫度下退火后,表面的Si-OH鍵脫水并聚合形成硅-氧鍵。這提高了晶片表面的親水性并進一步促進了它。晶圓鍵合。

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