氧和氬均為非匯聚氣體，在等離子體與晶體表面二氧化硅層上的活性原子和高能電子相互作用后，破壞了原來(lái)的硅氧鍵結(jié)構(gòu)，將其轉(zhuǎn)化為非橋鍵，使其表面上激活，使其與活性原子的電子融合，使其表面生成許多懸掛鍵。
同時(shí)，這些懸掛鍵以O(shè)H基團(tuán)的形式存在，生成穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)。經(jīng)過(guò)浸漬機(jī)堿或無(wú)機(jī)堿的退火處理，表面的Si-OH鍵脫水匯聚生成硅氧鍵，添加了晶體表面的潤(rùn)濕性，更有益于晶體的融合。對(duì)材料的直接鍵合而言，親水片表面比疏水晶片表面在自發(fā)鍵合方面更有優(yōu)勢(shì)。
隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，電訊產(chǎn)品、電腦及元件、半導(dǎo)體、液晶及光電產(chǎn)品等對(duì)超精細(xì)工業(yè)生產(chǎn)清洗設(shè)備及產(chǎn)品附加值設(shè)施之比例持續(xù)升高，等離子表面活化技術(shù)已成為許多電子資訊行業(yè)的必要技術(shù)。工業(yè)生產(chǎn)技術(shù)要求的持續(xù)提高，等離子表面處理在中國(guó)將有更寬闊的發(fā)展空間。隨著汽車(chē)工業(yè)的快速發(fā)展，許多外國(guó)制造商將目標(biāo)轉(zhuǎn)向中國(guó)市場(chǎng)，許多零部件制造商也留在中國(guó)，這些都對(duì)清潔提出了新的技術(shù)要求?？梢哉f(shuō)，等離子表面活化技術(shù)更適合汽車(chē)工業(yè)的發(fā)展。24779