等離子體是一類物質(zhì)狀態(tài),也叫第四態(tài)。在氣體中加入足夠的能量,這樣它就會離化成等離子態(tài)。等離子中的“活性”成分包括:離子、電子、活基、激發(fā)態(tài)(亞穩(wěn)態(tài))和光量子等。等離子處理機是應(yīng)用這種活性成分的特點來處理試品的表面,以滿足清潔等目的。
等離子表面處理設(shè)備,適用等離子清洗、活化、蝕刻等多種應(yīng)用,設(shè)備能在嚴(yán)酷環(huán)境下穩(wěn)定運行,滿足高均勻性的應(yīng)用效果。低溫等離子設(shè)備是一類小型、便宜的臺式等離子清洗設(shè)備,可用于納米級表面清潔和小型樣品的活化。
等離子處理機是應(yīng)用能量轉(zhuǎn)換技術(shù),在一定的真空負壓下,把氣體經(jīng)過電能轉(zhuǎn)化成活性很高的氣體等離子體,氣體等離子體輕緩地洗滌固體試品表面,引起分子結(jié)構(gòu)的變化,從而實現(xiàn)對試品表面有機污染源的超清洗,在很短的時間內(nèi),有機污染源被機械泵抽干,其清洗能力可達分子級。材料的表面特征在一定條件下也會發(fā)生變化。24362