低溫等離子清洗機(jī)接近室溫，等離子清洗表面改性特別適用于高分子材料，比電暈火焰儲(chǔ)存時(shí)間更長，表面處理張力相對較高。五。低成本等離子清洗機(jī)操作簡單，易于操作維護(hù)，可連續(xù)運(yùn)行。清潔成本顯著降低，因?yàn)閹追N等離子氣體通?？梢蕴娲鷶?shù)千公斤的清潔液。 6.全稱可控過程幾乎所有等離子清洗機(jī)參數(shù)的質(zhì)量都可以通過計(jì)算機(jī)設(shè)置和數(shù)據(jù)記錄來控制。

未經(jīng)處理的氧化石墨烯在0.5毫克/毫升濃度下，等離子清洗表面改性未表現(xiàn)出明(顯)的滅(菌)能力，而處理后的氧化石墨烯在0.02毫克/毫升濃度下，即可引起近90%細(xì)(菌)的滅活。 “搞明白低溫等離子體的各種滅(菌)機(jī)制，是我們課題組的重要努力方向?！秉S青透露。

● 高壓高頻發(fā)生器將恒壓轉(zhuǎn)換為高壓（10KV以上）。這是形成高壓放電所必需的。 ● 高壓冷卻工藝氣體通過柔性管道輸送到排放區(qū)。 ● 氣流中的活性元素（I+、E-、R*）會(huì)在放電區(qū)域產(chǎn)生電弧。 ● 為實(shí)現(xiàn)通過特殊噴嘴口時(shí)的處理效果，等離子清洗表面改性原理將活性氣流集中在樣品表面。 ● 等離子噴槍（動(dòng)態(tài)旋轉(zhuǎn)式）；最高轉(zhuǎn)速：3000轉(zhuǎn)/分鐘；加工寬度：3-60MM（采用進(jìn)口一體式專用）。

物理反應(yīng)機(jī)制是活性粒子轟擊待清洗表面,使污染物脫離表面最終被真空泵吸走;化學(xué)反應(yīng)機(jī)制是各種活性的粒子和污染物反應(yīng)生成易揮發(fā)性的物質(zhì),再由真空泵吸走揮發(fā)性的物質(zhì)。以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗,其優(yōu)點(diǎn)在于本身不發(fā)生化學(xué)反應(yīng),清潔表面不會(huì)留下任何的氧化物,可以保持被清洗物的化學(xué)純凈性;缺點(diǎn)就是對表面產(chǎn)生了很大的損害,會(huì)產(chǎn)生很大的熱效應(yīng),對被清洗表面的各種不同物質(zhì)選擇性差,腐蝕速度較低。

等離子清洗表面改性

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因此，該裝置的設(shè)備成本不高，清洗過程不需要使用昂貴的有機(jī)溶液，因此總體成本低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝。四。等離子設(shè)備除了對身體進(jìn)行有機(jī)溶液外，還消除了濕法清洗時(shí)容易清洗物體的問題。五。避免使用 ODS 有害有機(jī)溶液，如工業(yè)氯乙烷。本次清洗后，不產(chǎn)生有害物質(zhì)，是一種環(huán)保的綠色清洗方法。在全球范圍內(nèi)對環(huán)境的日益關(guān)注中，這種類型的環(huán)境問題變得越來越重要。

產(chǎn)生的自由基、正負(fù)離子在電場的持續(xù)加速和高運(yùn)動(dòng)碰撞下與材料表面發(fā)生碰撞，破壞分子內(nèi)范德華力和分子間原有的鍵合。這樣，一定深度的表面物質(zhì)從PI表面去除，形成細(xì)微的凹凸不平，同時(shí)產(chǎn)生的氣體變成官能團(tuán)，引起表面的物理和化學(xué)變化，繼續(xù)引發(fā)。材料?？偟膩碚f，整個(gè)過程是氣體不斷電離和不斷復(fù)合的過程，保證了整個(gè)反應(yīng)的不斷進(jìn)行，實(shí)現(xiàn)了PI表面粗化和PI表面改性。目的。

常溫冷藏至恒溫時(shí)，拆下產(chǎn)品工件，立即灌漿加固，避免金屬涂層吸濕，影響質(zhì)量。所選材料為微晶石蠟，可通過余熱溶解和金屬涂層灌漿進(jìn)行加固。。等離子體表面改性在材料表面改性中的應(yīng)用；等離子體表面改性將原料暴露于非聚合氣體等離子體中，用等離子體轟擊原料表面，使原料表面結(jié)構(gòu)發(fā)生諸多變化，從而實(shí)現(xiàn)其活化改性。表面裝飾層（幾到幾百納米）極薄，不易干擾整個(gè)宏觀性能指標(biāo)，是完全無損的工藝。

等離子清洗表面改性原理

例如，等離子清洗表面改性等離子清洗工藝提高了汽車外觀、舒適可靠性、使用壽命等方面的要求。為了滿足消費(fèi)者的需求，汽車廠商在生產(chǎn)汽車時(shí)更加注重細(xì)節(jié)的優(yōu)化和改進(jìn)。例如以下幾種情況：汽車儀表盤：儀表盤是汽車內(nèi)飾的主要組成部分。目前，除少量金屬外，幾乎全部采用塑料制成，包括PVC、ABS、TPO、TPU、改性PP材料等。等離子體處理提高了基體表面的活性，顯著改善了涂層、涂層和附著力的效果。

其基本原理是在低電壓下，等離子清洗表面改性將ICP射頻電源輸出到環(huán)形耦合線圈，通過耦合輝光放電將混合蝕刻氣體放電，產(chǎn)生高密度等離子體在下電極RF的作用下，轟擊襯底表面，襯底圖形區(qū)半導(dǎo)體材料的化學(xué)鍵斷裂，與刻蝕氣體產(chǎn)生揮發(fā)性物質(zhì)，使氣體與襯底分離，拉走真空管。在相同條件下，氧等離子體處理優(yōu)于氮等離子體處理。