表3-2 等離子體發(fā)生器能量密度對H2氣氛下C2H6反應的影響Ed/(kJ/mol) XC2H6/% YCH4/% YC2H4/% YC2H2/%320 37.6 2.6 3.7 10.6640 45.2 6.1 8.7 21.2860 59.2 7.0 9.2 28.7 0 61.6 7.9 9.6 34.6注：反應條件為C2H6/H2=2。
已發(fā)現(xiàn)表面層中雜質(zhì) C 的存在是制造半導體 MOS 器件或歐姆接觸的主要障礙。歐姆接觸和MOS器件的性能。發(fā)現(xiàn)等離子處理后CI的高能尾消失，五金自干漆附著力好不好未經(jīng)等離子處理的SiC表面的Cls峰與等離子處理后的Cls相比偏移了0.4 ev。這是由 C/ 的存在引起的。表面 CH 化合物。無氫等離子表面處理裝置處理后的Si-C/Si-O的峰強度比(面積比)為0.87。
相比大家對等離子清洗機的特性都不陌生了，五金自干漆附著力如有疑惑地方，可隨時咨詢我們喔，多謝關(guān)注。。等離子表面處理機紡織處理中的應用：紡織工業(yè)是人類歷史悠久的工業(yè)之一，也是工業(yè)革命的重要組成部分。長久以來，紡織行業(yè)為了適應不斷變化的消費者改變，應對日益嚴峻的環(huán)境壓力，自身也在不斷發(fā)展進步。紡織等離子體表面處理機技術(shù)在我國快速發(fā)展，早期等離子體表面處理技術(shù)已被新型的常壓等離子體表面處理技術(shù)取代。
眾所周知,等離子清洗設(shè)備分為大氣等離子體清洗機和真空等離子清洗機,他們處理的效果一樣,但是他們?nèi)匀挥幸恍┎煌牡胤?所以很多材料根據(jù)產(chǎn)品或其他因素的特點選擇不同的等離子體清洗設(shè)備,從而使產(chǎn)品加工更加高效。首先,讓我們了解真空等離子清洗機的原理和應用:在真空室中,接觸到各種各樣的具體過程氣體,通過射頻電源在一定壓力下產(chǎn)生高能無序等離子體,然后通過等離子體轟擊清洗產(chǎn)品表面,以達到清洗的目的。
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不活潑等離子體如氬氣(Ar)、氮氣(N2)、氟化氮(NF3)、四氟化碳(CF4)等，氣態(tài)等離子體清洗過程中不同類型氣體的反應機理不同；氣體的性質(zhì)不同，其用于清潔的污染物也須有不同的選擇。等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。
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