超聲波清洗一般通過空化來達到清洗目的，牽引力大于附著力空化是濕處理，清洗時間長，取決于清洗液的去污特性，增加了廢液的處理量。目前廣泛應用的工藝主要是等離子清洗工藝，其處理工藝簡單，對環(huán)境友好，清洗(效果)水果結構非常有效。等離子體設備指的是高度活躍的(化學)等離子體定向運動在電場的作用下,鉆孔的孔壁污染氣體固體化學反應,同時通過泵泵會產(chǎn)生氣體產(chǎn)品和一些粒子通過泵泵出口沒有反應。
。等離子等離子體作用下由 CH4 和 CO2 合成 C2 烴：由 CH4 和 CO2 合成 C2 烴是一個非常有意義的反應。 CO2加氫的第一個完全還原產(chǎn)物是CH4，牽引力大于附著力部分還原產(chǎn)物是C2烴。其次，CH4的完全氧化產(chǎn)物為CO2，部分氧化產(chǎn)物為C2烴，中間產(chǎn)物為CHX。這兩個反應是相互可逆的，例如 CH4 和 CO2 的共活化。即CO2的存在有利于CH4的部分氧化，而CH4的存在則抑制了CO2的顯著還原。
等離子體常用的激勵頻率有三種:激勵頻率為40kHz的超聲波等離子體、激勵頻率為13.56MHz的射頻等離子體和激勵頻率為2.45GHz的微波等離子體。不同等離子體產(chǎn)生的自偏置是不同的。超聲等離子體的自偏置在1000V左右，牽引力大于附著力射頻等離子體的自偏置在250V左右，微波等離子體的自偏置很低，只有幾十伏特，三種等離子體的機理不同。
所生成的電子在電場中加速時，牽引力大于附著力可獲得很高的能量，并與周圍的分子或原子發(fā)生碰撞，使分子和原子重新被電子激發(fā)，而本身又處于激發(fā)態(tài)或離子態(tài)，此時物質的存在狀態(tài)即為等離子體狀態(tài)。除氣體分子、離子和電子外，等離子體中還存在電中性的原子或原子團，它們受能量的激發(fā)狀態(tài)(也稱為自由基)，以及由等離子體發(fā)出的光，其中，波的長度、能量的高低對等離子體與物質表面相互作用起著重要作用。
牽引力大于附著力會怎么樣
等離子清洗機應用于光電半導體產(chǎn)業(yè)TO封裝中既能大大提高粘接及鍵合強度等性能的同時，又能避免人為因素長時間接觸引線框架而導致的二次污染。。
牽引力大于附著力
