那我跟大家分享一下：根據(jù)反應(yīng)類型的不同，附著力促進(jìn)劑6040等離子清洗系統(tǒng)的清洗技術(shù)可分為兩大類：等離子物理清洗，即高能射線沖擊用于活性粒子污染物的使用和分離；等離子化學(xué)清洗，即反應(yīng)在活性粒子和雜質(zhì)分子之間，污染物被揮發(fā)分離。 (1) 激發(fā)頻率對等離子清洗類型有一定影響。例：超聲波等離子體（激發(fā)頻率，40kHz）的大部分反應(yīng)是物理反應(yīng)；微波等離子體（激發(fā)頻率，2.45GHz）的反應(yīng)大部分是化學(xué)反應(yīng)。

表3-3等離子體作用下催化劑的催化活性201催化劑轉(zhuǎn)化率/%選擇性/%產(chǎn)率/%比/molC2H6 CO2、C2H4、C2H2、C2H4和C2H2、C2H4/C2H2、H2/CONo催化劑33.8 22.7 12.4 25.4 12.7 0.48 2.3410La2O3/Y-Al2Oy 37.5 18.5 20.8 32.0 19.8 0.65 2.7410CeO2/ Y-al2o3 42.4 20.6 20.4 31.3 21.8 0.65 2.640.1Pd/ Y-al2o3 30.0 24.6 46.7 6.3 15.9 7.40 1.46注:反應(yīng)條件為:催化劑投加量0.7ml，附著力促進(jìn)劑6040放電功率20W(峰值電壓28kV，頻率44Hz)，流量25 ml/min，進(jìn)料C2H6(50vol.%)， CO2 (50vol.%)。

氬本身是惰性氣體，附著力促進(jìn)劑6040等離子體氬不與表面發(fā)生反應(yīng)，而是通過離子轟擊清潔表面。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧等離子體清洗。等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?；钴S，容易與碳?xì)浠衔锓磻?yīng)生成二氧化碳、一氧化碳、水等揮發(fā)性物質(zhì)，從而去除表面污染物。等離子體2.按激勵頻率分類常用的等離子體激勵頻率有三種：激勵頻率為40kHz的超聲等離子體、激勵頻率為13.56MHz的射頻等離子體和激勵頻率為2.45GHz的微波等離子體。

我們使用13.56MHz高頻電源在設(shè)備中產(chǎn)生輝光放電，附著力促進(jìn)劑6040在不同的反應(yīng)室條件下，實(shí)現(xiàn)多種不同的反應(yīng)機(jī)理，從而產(chǎn)生不同的工藝效果。等離子體表面處理機(jī)清洗技術(shù)的一個重要優(yōu)勢在于其通用性。等離子體表面處理機(jī)可用于各種材料的表面活化、清洗、蝕刻和沉積。。

蕪湖附著力促進(jìn)劑作用機(jī)理

1. 真空等離子清洗機(jī)處理的產(chǎn)品或材料的反應(yīng)機(jī)理真空等離子清洗機(jī)在低壓反應(yīng)室中處理產(chǎn)品?；静僮髁鞒淌菍⒈患庸の镏糜谥Ъ芑螂姌O上并合上。反應(yīng)室。室門。然后將其抽真空至設(shè)定的背景真空值，通過相應(yīng)的工藝氣體，并保持真空在 20- PA 范圍內(nèi)。然后啟動電源以形成等離子體并與產(chǎn)品或材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，包括物理或等離子體清潔、等離子體活化、等離子體蝕刻、等離子體聚合等。

就反應(yīng)機(jī)理而言，等離子體清洗機(jī)通常包括以下過程：無機(jī)氣體被激發(fā)成等離子體態(tài)；氣相物質(zhì)吸附在固體表面；吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)形成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子分解形成氣相；反應(yīng)殘留物從表面除去。

等離子體的基本過程是不同的帶電粒子在電場和磁場的作用下相互作用，產(chǎn)生不同的效果。利用等離子體的特性，可用于各種用途，是電氣開發(fā)的新領(lǐng)域。等離子清潔劑不僅在彈性體行業(yè)中發(fā)揮作用，還可以用等離子活化和清潔塑料、金屬、玻璃等復(fù)合材料，清潔電子元件、PCB清潔劑、靜電消除器、IC等清潔表面并加強(qiáng)粘合。優(yōu)異的成績）。一些工藝使用一些化學(xué)品來處理這些橡膠和塑料的表面。

化學(xué)辦公室常用來去除這類雜質(zhì)由各種試劑和化學(xué)藥品配制的清洗液與金屬離子反應(yīng)形成金屬離子絡(luò)合物，從晶圓表面分離出來。氧化物半導(dǎo)體晶片暴露在氧氣和水中會形成一個自然的氧化層。這種氧化膜不僅阻礙了半導(dǎo)體制作的許多步驟，而且含有一些金屬雜質(zhì)，在一定條件下會轉(zhuǎn)移到晶圓上，構(gòu)成電缺陷。這種氧化膜的去除通常是用稀氫氟酸浸泡完成的。

附著力促進(jìn)劑6040

等離子體表面改性是等離子體與材料表面相互作用的過程，附著力促進(jìn)劑6040包括等離子體物理和等離子體化學(xué)兩個過程。等離子體和材料表面改性的機(jī)理可以簡單解釋為：等離子體中的各種活性粒子撞擊材料表面，引發(fā)能量交換過程中的大分子自由基進(jìn)一步反應(yīng)，在材料表面引入新的基因簇并去除小分子，從而導(dǎo)致材料表面性能的改善。結(jié)果表明，等離子體作用后材料表面主要有四種變化：產(chǎn)生自由基。

此外，附著力促進(jìn)劑6040高能離子會在壓力下對介質(zhì)的外觀產(chǎn)生物理影響和蝕刻，從而去除再沉積的化學(xué)反應(yīng)產(chǎn)物和聚合物。介電層的蝕刻是通過化學(xué)和物理的共同作用完成的。蝕刻是晶圓制造過程中的重要環(huán)節(jié)，也是微電子集成電路制造過程和微納制造過程中的重要環(huán)節(jié)。一般在光刻膠涂層和光刻顯影后，目的是利用光刻膠作為掩模，物理濺射，化學(xué)作用去除不需要的金屬，形成與光刻膠圖案相同的電路圖案。