等離子設(shè)備干式處理無污染、無污水，高附著力UV啞光樹脂滿足節(jié)能環(huán)保要求;4、等離子設(shè)備可在生產(chǎn)線上在線運行，降低成本。。等離子設(shè)備已逐步進入生活和生產(chǎn)的行列:等離子設(shè)備在橡塑行業(yè)的應(yīng)用已經(jīng)非常成熟，其相關(guān)產(chǎn)值逐年增加。國外市場產(chǎn)值高于國內(nèi)市場，但國內(nèi)發(fā)展空間大，應(yīng)用前景可觀。隨著經(jīng)濟的發(fā)展，人們的生活水平不斷提高，對消費品的質(zhì)量要求也越來越高，等離子體設(shè)備逐漸進入消費品生產(chǎn)行業(yè)。

隨著汽車工業(yè)的快速發(fā)展，高附著力UV啞光樹脂不少國外廠商瞄準中國市場，不少零配件廠商也留在中國，對清洗提出了新的技術(shù)要求。可以說，等離子清洗技術(shù)更適合汽車工業(yè)的發(fā)展。醫(yī)療器械在使用前的處理過程非常精細，用氟利昂清洗不僅浪費資源，而且非常昂貴，而血漿表面處理技術(shù)的使用避免了使用化學物質(zhì)的弊端，更適合現(xiàn)代醫(yī)學科技的技術(shù)要求。光學器件和一些光學產(chǎn)品對清洗的技術(shù)要求非常高，等離子體表面處理技術(shù)可廣泛應(yīng)用于該領(lǐng)域。

根據(jù)半導體材料的市場預(yù)測，高附著力UV啞光樹脂對于一家每月生產(chǎn) 10 萬片晶圓的 20NM DARM 晶圓廠來說，產(chǎn)量下降 1% 將使年利潤從 3000 萬美元減少到 5000 萬美元，從而導致邏輯芯片制造商的虧損增加。此外，減產(chǎn)（低）也增加了對已經(jīng)很高的制造商的資本支出。因此，工藝優(yōu)化和控制是半導體材料制造過程中的重中之重，制造商對半導體行業(yè)尤其是清洗工藝的需求越來越大。

等離子體按狀態(tài)、溫度和離子密度一般分為高溫等離子體和低溫等離子體（瓶體和低溫等離子體）。其中，高附著力UV啞光樹脂高溫等離子體的電離度接近1，各種粒子的溫度幾乎相同，處于熱力學平衡，主要用于受控熱核反應(yīng)的研究。冷等離子體處于非平衡狀態(tài)，不同粒子的溫度也不相同。其中，電子溫度（Te）≥離子溫度（Ti）可達到104K或更高，但離子和中性粒子的溫度可降至300-500K。一般氣體放電電子屬于低溫等離子體。

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不同有源區(qū)寬度下，光板多晶硅及有表面形貌的多晶硅在曝光及蝕刻前后特征尺寸的差異，可見有源區(qū)寬度不同，等離子表面處理機蝕刻過程的蝕刻偏差(Etch Bias)也會存在差異。。

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通過等離子清洗過后可以有效去除金導體厚膜基板導帶上的有機沾污。參見下圖, 厚膜基板上導帶經(jīng)過射頻等離子清洗后, 導帶上存在有機沾污發(fā)黃的部位完全消失, 表明有機沾污被去除。

等離子體清洗蝕刻生產(chǎn)等離子體的機器是將兩個電極設(shè)置在密封的容器中形成電磁場，用真空泵實現(xiàn)一定程度的真空，隨著氣體越來越稀薄，分子之間的距離以及分子或離子之間的移動距離越來越長。在磁場作用下，碰撞形成等離子體，同時會產(chǎn)生輝光。等離子機等離子在電磁場空間中運動，轟擊被處理物體表面，以達到表面處理、清洗和蝕刻的效果。

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