1、冷等離子清洗機在運行中的電源要求如下： AC220V/380V頻率為50/60Hz，附著力增強劑1060也有3/12.5kw。具體配置根據(jù)您的需要而定，開機前需要連接電源。設(shè)備啟動運行后，會聽到平穩(wěn)的運行聲，常綠指示燈常亮，表示設(shè)備運行正常。如果黃色故障燈亮，則應(yīng)停機進行操作維護。 2.使用過程中應(yīng)定期清洗。清洗前還應(yīng)關(guān)閉電源，打開腔體和電控箱，注意按說明書要求清洗腔體。

等離子清洗機設(shè)備原理:輸出功率:0.6 kw輸入電壓:220/230VAC & plusMN;10% 50/60KHz工作頻率:22.5 khz電源控制:雙電平逆變器，三聚氰胺板上附著力增強劑190-250V寬量程調(diào)壓器，輸出功率可預(yù)制和調(diào)節(jié);噴嘴數(shù)量:1個(數(shù)量可定制)及數(shù)量;處理寬度:38 mm氣源:0.4-0.6bar(工作壓力PID自動調(diào)節(jié))控制系統(tǒng):PLC人機界面自動控制，可實現(xiàn)轉(zhuǎn)速與等離子電源自動匹配，具有低速和無紙停機。

這是因為等離子清洗設(shè)備的后刻蝕工藝需要干凈的硅界面進行濕法刻蝕，附著力增強劑1060形成σ型硅溝槽。這種深度差異可能是由蝕刻氣體中的 CL2 引起的。與其他氣體（如HBR）相比，氯和硅形成的副產(chǎn)物具有更好的氣化性能，有效減少蝕刻副產(chǎn)物的沉積，提高蝕刻負荷，可以達到效果。實驗表明，加入CL2對改善深度差非常有效。通過引入 CL，這種模式導(dǎo)致的深度差異可以提高 60%。

這是因為負載在 Y-Al2O3 表面上的 Ba (NO3) 2 在此溫度下沒有完全分解。這可以通過樣品的 X 射線衍射 (XRD) 來證實。) 我檢查了光譜。當煅燒溫度為500-800℃時，三聚氰胺板上附著力增強劑催化活性影響不大。當反應(yīng)溫度超過800℃時，Y-Al2O3轉(zhuǎn)化為δ-A12O3，反應(yīng)活性下降。。等離子鍵合鋁線等離子活化工藝研究：等離子活化工藝廣泛應(yīng)用于電子、生物醫(yī)學(xué)、珠寶制造和紡織等許多行業(yè)。

三聚氰胺板上附著力增強劑

常用頻率有40KHZ、13.56MHZ、20MHZ。 40KHZ的自偏壓約 0V，13.56MHZ的自偏壓約250V，20MHZ的自偏壓低。這三種激勵頻率的機制是不同的。 40KHZ產(chǎn)生的響應(yīng)為：有物理響應(yīng)，也有13.56MHZ產(chǎn)生的響應(yīng)，物理的和化學(xué)的都有。 20MHZ有物理反應(yīng)，但最主要的反應(yīng)是化學(xué)反應(yīng)。材料應(yīng)在 13.56MHZ 或 13.56MHZ 激活和修改。

這樣就達到了表面處理、清洗、蝕刻的效果(清洗過程在一定程度上是輕微的蝕刻過程);清洗后，將污垢和氣體排出，空氣恢復(fù)到常壓。真空等離子清洗機清洗過程中，真空泵控制真空室，氣體流量決定真空泵的淺色:若顏色重，真空度低，氣體流量大;若真空度超長，氣體流量過小，真空泵的真空度根據(jù)規(guī)定要求的處理效果來確定。

6、等離子清洗需要控制的真空度在Pa左右，這個清洗條件很容易達到。因此，該裝置的設(shè)備成本不高，整體成本低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝，因為該清洗工藝不需要使用更昂貴的有機溶劑。 7.等離子清洗消除了這種需要。

在低溫等離子體中，重粒子的溫度只有室溫，而電子溫度可以達到成千上萬度，因此遠離熱力學(xué)平衡狀態(tài)，例如輝光放電屬于低溫等離子體。冷等離子主要用于等離子蝕刻、沉積和等離子表面裝飾。電洗滌溫度是許多用戶關(guān)心的問題，電洗滌時，電洗滌火焰看起來也和一般的火焰差不多，而電洗滌設(shè)備如采用中頻電源，功率大，能量猛，不加水冷溫度也很高，若洗滌材料不耐溫，則需注意溫度。

附著力增強劑1060