等離子清洗的優(yōu)勢：  滿足無損傷和抑制腐蝕的新工藝要求。等離子清洗原理與超聲波原理不同，銀鏡反應附著力原理當艙體里接近真空狀態(tài)時，開啟射頻電源，這時氣體分子電離，產(chǎn)生等離子體，并且伴隨輝光放電現(xiàn)象。  等離子體在電場下加速，從而在電場作用下高速運動，對物體表面發(fā)生物理碰撞，等離子的能量足以去除各種污染物，同時氧離子可以將有機污染物氧化為二氧化碳和水蒸氣排出艙體外。

在清洗過程中，銀鏡反應為什么有附著力等離子體與物體表面層發(fā)生物理化學反應，清洗過程中引入工作氣體，從而產(chǎn)生等離子體和物體表面層。物理反應的原理是用化學（活化）粒子轟擊和清潔表面，使污染物遠離表面。真空泵抽吸的化學反應原理是各種化學（活性）顆粒與污染物反應產(chǎn)生揮發(fā)性物質，真空泵吸引揮發(fā)性物質達到清洗的目的。H2、N2、O2、氬(Ar)、CF4等是我們的工作氣體。

等離子體中存在以下化學物質：電子器件處于快速運動狀態(tài)；中性原子、分子和原子團（自由基）被激發(fā)（活性）；電離原子和分子；沒有被抵消的分子、原子等，銀鏡反應為什么有附著力但是化學物質作為一個整體仍然是電中性的。低溫等離子體發(fā)生器的原理主要是依靠等離子體中的活性粒子去除表面污漬。

硅片有多種尺寸，銀鏡反應為什么有附著力尺寸越大，產(chǎn)率越高。題外話，由于硅片是圓的，所以需求在硅片上剪一個缺口來承認硅片的坐標系，根據(jù)缺口的形狀不同分為兩種，分別叫flat、notch?！　炔筷P閉框架、減振器：將作業(yè)臺與外部環(huán)境隔離，保持水平，減少外界振蕩干擾，并維持穩(wěn)定的溫度、壓力。光刻機分類　 光刻機一般根據(jù)操作的簡便性分為三種，手動、半主動、全主動。

銀鏡反應附著力原理

等離子清洗/刻蝕產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設置兩個電極形成電磁場，用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子間距及分子或離子的自由運動距離也越來越長，受磁場作用，發(fā)生碰撞而形成等離子體，同時會發(fā)生輝光。等離子體在電磁場內空間運動，并轟擊被處理物體表面，從而達到表面處理、清洗和刻蝕的效果。。

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在蝕刻的情況下，這需要更激進的端點蝕刻或不會損壞細石墨烯線的后處理工藝。其他研究表明，氧等離子體在蝕刻厚石墨烯方面更有效，但氧等離子體以高速蝕刻石墨烯并且對更厚的多層石墨烯更有效。為了研究蝕刻效果，我們使用了線條和空隙均為 20M 的圖案。本文中使用的石墨烯是在二氧化硅上生長的 50 NM 厚。

真空低溫等離子發(fā)生器清洗過程中難以去除的物質：真空低溫等離子發(fā)生器又稱等離子表面處理裝置，是一種新的高科技技術，可以達到使用等離子無法達到的效果。 .傳統(tǒng)吸塵器。等離子體是物質的狀態(tài)，也稱為第四態(tài)。向氣體中添加足夠的能量以將其電離成等離子體狀態(tài)。在我們的日常生活中，我們不僅要了解真空低溫等離子發(fā)生器技術的優(yōu)點，還要了解它在使用中的缺點和問題。

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