隨著上下放電電極間距從8 mm增大到16 mm,甲烷轉(zhuǎn)化率略有峰值變化,當(dāng)放電電極間距為14 mm時為30.3%；當(dāng)放電距離為8 mm時，電暈機陶瓷電極工作原理為22.0%。放電距離在10～16毫米之間的變化對CO2的轉(zhuǎn)化率影響不大。僅在放電距離為8 mm時，CO2轉(zhuǎn)化率為21.8%。

根據(jù)電極或器件壁電位與電暈電位的關(guān)系，電暈機陶瓷電極工作原理可分為離子鞘層和電子鞘層。電極附近鞘層：設(shè)電暈電位為Vp，電極電位為Vs。當(dāng)電極電位Vs與電暈電位Vp之差均為1時，就會接通外部電路，電極中流過電流，相當(dāng)于引入一個外部電位作用于電暈。當(dāng)VsNe)。隨著電場的增大，在離電極一定距離內(nèi)會形成由離子組成的空間電荷層，即離子鞘層。

電暈清洗/蝕刻機的裝置是將兩個電極布置在密封的容器中形成電場，電暈機陶瓷電極距離用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子之間的距離以及分子或離子的自由運動距離越來越長，在電場的作用下，碰撞形成電暈，這些離子具有很高的活性，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面上引起化學(xué)反應(yīng)。不同氣體的電暈具有不同的化學(xué)性質(zhì)。

真空電暈處理原理；電暈是物質(zhì)存在的一種狀態(tài)。通常情況下，電暈機陶瓷電極距離物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在某些特殊情況下，還存在第四種狀態(tài)，比如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。處于電暈狀態(tài)的物質(zhì)有以下幾種：高速運動的電子；處于活化狀態(tài)的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離原子和分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)作為一個整體保持電中性。

電暈機陶瓷電極距離

電暈材料粘接機電暈材料粘接機原理通過射頻電源在一定壓力下產(chǎn)生高能無序電暈，用電暈轟擊清洗后的產(chǎn)品表面，達到光刻膠清洗、改性、灰化的目的。電暈材料粘接機的應(yīng)用范圍：主要針對材料的表面處理，可根據(jù)需要實現(xiàn)物理變化和化學(xué)響應(yīng)。

電暈原理--表面活化與清洗電暈包括原子、分子、離子、電子、活性基團、激發(fā)原子、活化分子和自由基等。

在射頻電場作用下，會形成垂直于晶圓方向的自偏壓，使離子得到比較大的轟擊能量。在電容中在耦合電暈階段開始時只有一個射頻電源，射頻電源的變化會同時影響電暈密度和離子轟擊能量，單頻容性耦合電暈的可控性不盡如人意。多頻電容耦合電暈刻蝕機通過引入多頻外接電源，使電容耦合電暈刻蝕機的性能有了很大的提高。對于多頻外加電場，高頻電場主要控制電暈密度，低頻電場主要控制離子表面撞擊能。

電暈與物體表面的化學(xué)反應(yīng)可以產(chǎn)生活性化學(xué)基團，這些化學(xué)基團具有很高的活性，因此可用于廣泛的領(lǐng)域，如提高材料表面的粘附能力，提高焊接能力、結(jié)合、親水性等諸多方面。同時，這些特性已完美應(yīng)用于生物、醫(yī)療、手機、LED、半導(dǎo)體、光纖、汽車、零部件制造等行業(yè)。不僅提高了產(chǎn)品的質(zhì)量，而且大大增加了產(chǎn)品的耐久性。。在半導(dǎo)體封裝工業(yè)中，包括集成電路、分立器件、傳感器和光電封裝等，通常使用銅引線框架。

電暈機陶瓷電極工作原理

經(jīng)氬電暈處理后，電暈機陶瓷電極距離表面張力將明顯提高?；钚詺怏w研究所產(chǎn)生的電暈也能增加表面粗糙度，但氬離子電離后產(chǎn)生的顆粒相對較重，氬離子在電場作用下的動能會顯著高于活性氣體，因此其粗化效果會更加明顯，廣泛應(yīng)用于無機基底的表面粗化過程。如玻璃基板表面處理、金屬基板表面處理等。③主動氣體輔助在電暈的活化清洗過程中，常采用工藝氣體混合以達到較好的效果。

電暈中有正負電荷、亞穩(wěn)態(tài)分子和原子。另一方面，電暈機陶瓷電極距離當(dāng)各種活性顆粒在被清洗物體表面相互接觸時，各種活性顆粒會與物體表面雜質(zhì)的污垢發(fā)生反應(yīng)，形成揮發(fā)性氣體等物質(zhì)，從而將揮發(fā)性物質(zhì)抽入真空泵。例如，ROS電暈氧化材料表面的有機物質(zhì)。相反，各種活性顆粒會轟擊清潔材料表面，使污染在材料表面的雜質(zhì)隨真空泵的氣流被吸走。