1. CO2分子與高能電子的非彈性碰撞; 2.系統(tǒng)中的 CHx 和 H 等活性物質(zhì)會激活 CO2; 3.催化劑吸附 CO2 分子,那種油漆附著力好與 C-0 結(jié)合,促進(jìn) CO 鍵的斷裂和 CO。并產(chǎn)生活性O(shè)原子。顯然,在等離子體催化的聯(lián)合作用下,路徑 3 對于 CH4 和 CO2 的轉(zhuǎn)化無疑是重要的。等離子體中催化劑的活化主要取決于與高能電子的碰撞。

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這層空氣氧化塑料薄膜的清除常運(yùn)用稀氫氟酸浸泡達(dá)成。 plasma在半導(dǎo)體芯片晶圓清潔工藝技術(shù)上的運(yùn)用等離子技術(shù)清潔具備工藝技術(shù)簡易、實(shí)際操作便捷、沒有廢料處理和空氣污染等難題。但plasma無法清除碳和其他非揮發(fā)物金屬材料或金屬氧化物殘渣。

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從CH-N2等離子體的發(fā)射光譜中,我們可以發(fā)現(xiàn)N2的特征峰和CH的特征峰分別在400~440nm和431nm波長范圍內(nèi)。由于氮分子的N-N鍵裂解能高達(dá)9.76eV,脈沖電暈等離子體中形成N原子的可能性相對較小,因此CH4-N2等離子體等離子體體系中的活性粒子主要是激發(fā)態(tài)分子和甲基自由基。

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