低溫等離子技術(shù)中的物質(zhì)呢?一個(gè)中性原子、分子結(jié)構(gòu)或一組原子，等離子體刻蝕機(jī)縮寫其電子處在高運(yùn)動(dòng)狀態(tài)，其電子處在活動(dòng)狀態(tài);原子和分子結(jié)構(gòu)的離子開花;分子結(jié)構(gòu)解離反應(yīng)中形成的紫外線;未反應(yīng)的分子結(jié)構(gòu)、原子等，總體上保持電荷平衡?，F(xiàn)階段，真空等離子清洗機(jī)的運(yùn)用越來越普遍。

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表 6.1 一般氣體分類及基本特性氣體類型中文名英文名英文縮寫采用特征惰性氣體氮氮N2稀釋穩(wěn)定的氬氣氬氣氬氦海倫他還原氣氫氫H2減少易燃易爆氧化氣體氧氧02 02氧化燃燒支持2.特殊氣體等離子清潔器專用氣體是一種由于供應(yīng)量相對(duì)較低而不能立即使用的氣體。盡管這些氣體通常相對(duì)活潑、有毒且具有腐蝕性，但在使用這些特殊氣體時(shí)應(yīng)格外小心，因?yàn)樗鼈兪悄承┘呻娐分圃旃に嚥襟E中必不可少的材料來源。

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