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勵(lì)磁頻率的分類有三種常用的等離子體功率激發(fā)頻率。激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲波等離子體,什么漆附著力強(qiáng)硬度高產(chǎn)生的反應(yīng)為物理反應(yīng),清洗系統(tǒng)的離子密度低。 13.56MHz等離子體屬于高頻等離子體,等離子體反應(yīng)既有物理反應(yīng)也有化學(xué)反應(yīng),離子密度高,能量高。 2.45GHz等離子體是離子濃度最高的微波等離子體,反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。

激發(fā)頻率為40kHz的等離子體為超聲波等離子體,什么漆附著力強(qiáng)硬度高反應(yīng)為物理反應(yīng),清洗系統(tǒng)的離子密度低。等離子體13.56MHz的主體是高頻等離子體,等離子體的反應(yīng)是物理和化學(xué)的,離子密度和能量都很高。 2.45GHz等離子體為微波等離子體,離子濃度高,反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。

2、低溫等離子體降污機(jī)理,什么漆附著力強(qiáng)硬度高等離子表面處理器在等離子體化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中的能量轉(zhuǎn)移,等離子體化學(xué)反應(yīng)中的能量轉(zhuǎn)移大致如下:(1)電場(chǎng)+電子→高能電子的組合;(2)高能電子+分子(或原子)→活性基團(tuán)(受激原子、受激基團(tuán)、游離基團(tuán));(3)活性基+分子(原子)→生成物+熱;(4)活性基+活性基→生成物+熱。

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等離子體裝置等離子體中所含的基本粒子:眾所周知,等離子體裝置產(chǎn)生的等離子體處于弱電離狀態(tài),因此在低溫等離子體放電過(guò)程中通常會(huì)產(chǎn)生六個(gè)基本粒子。光子、電子、基態(tài)原子(或分子)、激發(fā)原子(或分子)、正離子和負(fù)離子。。

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左起繼電器(K1)實(shí)現(xiàn)對(duì)真空泵的控制 左起第7個(gè)中間繼電器(K7)實(shí)現(xiàn)對(duì)高真空氣動(dòng)擋板閥的控制 兩者都收到信號(hào)后,相應(yīng)的中間繼電器吸合給負(fù)載實(shí)現(xiàn)控制。為防止真空室因誤操作吸油或吸氣,需要在K1不工作時(shí),關(guān)閉K7中高真空氣動(dòng)擋板閥的控制線K7和L7。將K1的常開(kāi)觸點(diǎn)的另一端的一端和另一端的另一根線連接到K7的原始L7線的連接處。

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