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未曝光的干膜。結(jié)果，表面改性熱處理的類(lèi)型被未曝光的干膜覆蓋的銅表面在隨后的蝕刻工藝中通過(guò)蝕刻被去除。在此顯影過(guò)程中，顯影滾筒的噴嘴壓力不均勻，導(dǎo)致部分未曝光的干膜不能完全熔化而形成殘?jiān)?。這種情況在細(xì)線(xiàn)生產(chǎn)中很可能會(huì)出現(xiàn)，最終會(huì)在后續(xù)蝕刻后造成短路。等離子處理可以很好地去除干膜殘留物。此外，在電路板上安裝元件時(shí)，BGA等區(qū)域需要干凈的銅表面，殘留物的存在會(huì)影響焊接可靠性。
自由基能夠很快與材料本身發(fā)生反應(yīng)，水性墨水染料的表面改性因?yàn)樗鼈儾环€(wěn)定。這就讓材料表面能夠形成穩(wěn)定的共價(jià)鍵，使其能夠被印刷或結(jié)合到。等離子清洗機(jī)目前廣泛應(yīng)用于電子行業(yè)、手機(jī)制造業(yè)、汽車(chē)制造業(yè)、紡織行業(yè)、生物醫(yī)藥、新能源行業(yè)及航天航空領(lǐng)域等方面。如電子產(chǎn)品中，LCD/OLED屏的涂覆處理、PC塑膠框粘結(jié)前處理；機(jī)殼及按鍵鈕等結(jié)構(gòu)件的表面噴油絲印；PCB表面的除膠除污清潔、鏡片膠水粘貼前的處理；電線(xiàn)、電纜噴碼前的處理等領(lǐng)域處理。
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