如果電子、離子和中性粒子（中性氣體）的溫度分別為Te、Ti和Tn，電暈機為什么只有一個輸出我們稱這三個粒子的溫度近似相等(Te≈Ti≈Tn)的熱平衡等離子體為熱等離子體（熱等離子體），在實際的熱等離子體發(fā)生設(shè)備中，陰極和陽極之間的電弧放電效應(yīng)使流入的工作氣體電離，輸出的等離子體呈射流狀，可用作等離子體射流（大氣壓射流等離子體射流）、等離子體炬等。

在等離子體清潔器設(shè)計中，電暈機為什么報警為了將回路中的高頻電流控制在合理的取值范圍內(nèi)，高頻發(fā)生器的輸出阻抗常設(shè)計為純電阻，其阻值一般為50高頻放電阻抗一般為容性阻抗，高頻放電阻抗會因等離子體處理設(shè)備反應(yīng)室內(nèi)放電條件的變化而發(fā)生變化，因此需要調(diào)整匹配網(wǎng)絡(luò)的阻抗匹配和需要加入的放電阻抗，使加入后模擬的負載阻抗與高頻發(fā)生器輸出阻抗一致，從而實現(xiàn)匹配。。

3.電力源功率和頻率對等離子體清洗效果的影響；電源的功率對等離子體參數(shù)如電極溫度、等離子體產(chǎn)生的自偏置電壓和清洗效率等有影響。隨著輸出功率的增加，電暈機為什么報警等離子體清洗速度逐漸增加并穩(wěn)定在一個峰值，而自偏置電壓隨著輸出功率的增加而增加。由于功率范圍基本不變，頻率是影響等離子體自偏壓的關(guān)鍵參數(shù)。隨著頻率的增加，自偏壓逐漸減小。此外，隨著頻率的增加，等離子體中電子的密度會逐漸增大，而粒子的平均能量會逐漸減小。

該清洗系統(tǒng)包括進料區(qū)、清洗區(qū)、下料區(qū)和可在進料區(qū)、清洗區(qū)和下料區(qū)之間往復(fù)移動的裝載平臺。

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此外，火焰又分為火焰中心、中間火焰和外焰，其中外焰由于接觸氧氣或氧化劑而帶電（帶電）較多，燃燒反應(yīng)帶電（帶電）較多，因此溫度較高?？扇嘉锱c氧化劑接觸，溫度達到燃點就會產(chǎn)生火焰。有些材料燃燒時，還會產(chǎn)生一些固體小顆粒，在熱空氣上升的帶動下混雜在火焰中。不同的材料燃燒時，火焰的顏色也不同。溫度越高，火焰中粒子的電離程度越高，火焰溫度一般很高，屬于高溫等離子體。

基于化學(xué)反應(yīng)的等離子體清洗機的優(yōu)點是清洗速度快、選擇性好、能有效去除有機污染物，缺點是表面會產(chǎn)生氧化物。與物理反應(yīng)相比，化學(xué)反應(yīng)的缺點不易克服。并且兩種反應(yīng)機理對表面形貌的影響顯著不同，物理反應(yīng)可以使表面在分子范圍內(nèi)變得更多&ldquo；粗糙&rdquo；從而改變表面的粘附特性。另一種等離子體清洗是物理反應(yīng)和化學(xué)反應(yīng)在表面反應(yīng)機理中起著重要作用，即反應(yīng)離子腐蝕或反應(yīng)離子束腐蝕，兩種清洗可以相互促進。

因此，為了減少甚至避免射頻飛濺，必須對真空等離子體處理器的腔體結(jié)構(gòu)、極板冷卻和工藝參數(shù)進行調(diào)整和優(yōu)化。我們稍后會討論這部分。。真空等離子體處理儀器真空處理技術(shù)已被充分證明并廣泛應(yīng)用于電子工業(yè)中的蝕刻和表面改性技術(shù)。它越來越多地應(yīng)用于航空、汽車、醫(yī)療和包裝行業(yè)的塑料、橡膠和天然纖維的清洗和表面工程，并用于替代化學(xué)溶劑(CFC)清洗金屬零件。

等離子體處理物質(zhì)表面時，高能電子會先轟擊物質(zhì)表面，使表面化學(xué)鍵斷裂，形成小分子而揮發(fā)。當化學(xué)鍵斷裂時，等離子體中的活性成分，如氧等離子體、自由基等，可以與被電子轟擊斷裂的化學(xué)鍵重新結(jié)合，留在表面活化表面。因此，等離子體處理后的表面粗糙度會顯著增加，同時表面會有活性基團，在粘接過程中能與膠粘劑發(fā)生化學(xué)鍵合，可顯著提高粘接強度。如果產(chǎn)生等離子體的氣體中只含有惰性成分，就只能形成粗糙的表面。

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