等離子清洗機(jī)的工作原理是在真空的條件下，剝離強(qiáng)度與附著力壓力越來越小，分子結(jié)構(gòu)距離越來越大，分子結(jié)構(gòu)之間的作用力越來越小，氧氣、氬氣、氫氣被射頻電源產(chǎn)生的高壓交變電場(chǎng)沖擊成高活性或高能離子，再與有機(jī)化學(xué)污染物、顆粒污染物反應(yīng)或撞擊產(chǎn)生揮發(fā)性物質(zhì)，再通過工作氣流和真空泵將揮發(fā)性物質(zhì)去除，從而達(dá)到清潔活化表層的目的。是清洗對(duì)策中最完整的剝離清洗。

在真空室中，剝離強(qiáng)度與附著力的關(guān)系用高頻電源在恒壓下產(chǎn)生高能等離子體后，用等離子體照射工件表面，發(fā)揮微觀表面剝離作用（剝離深度可調(diào)節(jié)）。調(diào)整等離子體沖擊時(shí)間，等離子體的作用是納米級(jí)的，不會(huì)損傷被處理物體，達(dá)到操作的目的。真空等離子表面處理裝置的結(jié)構(gòu)：真空離子清洗機(jī)：1?？刂茊卧嚎刂茊卧饕譃樗姆N模式：半自動(dòng)控制、全自動(dòng)控制、PC電腦控制、液晶觸摸屏控制（包括以下）。國(guó)外進(jìn)口產(chǎn)品） ● 控制裝置主要有兩種。

等離子處理器廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子蝕刻、等離子晶片分層、等離子涂層、等離子灰化、等離子活化和等離子表面處理。等離子清洗機(jī)用于去除晶圓表面的顆粒，剝離強(qiáng)度與附著力徹底去除光刻膠等有機(jī)物，活化和粗糙化晶圓表面，提高晶圓表面的潤(rùn)濕性。等離子清洗機(jī)的應(yīng)用包括預(yù)處理。 , 灰化/光刻膠/聚合物剝離、晶圓凸塊、靜電去除、介質(zhì)蝕刻、有機(jī)污染去除、晶圓減壓等。

從目前各類清洗方法來看, 可能等離子體清洗也是所有清洗方法中最為徹底的剝離式的清洗。就反應(yīng)機(jī)理來看, 等離子體清洗通常包括以下過程:a.無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài);b.氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;c.被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子;d.產(chǎn)物分子解析形成氣相;e.反應(yīng)殘余物脫離表面。

剝離強(qiáng)度與附著力

等離子清洗機(jī)，徹底的剝離式清洗 等離子清洗機(jī)不需化學(xué)試劑，無廢液；等離子清洗可處理金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料； 等離子清洗設(shè)備可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的精細(xì)清洗；等離子體清洗機(jī)的處理工藝易控制，可重復(fù)，便于自動(dòng)化。

在平行于電極的等離子體反應(yīng)室中，被蝕刻電極所放置的面積較小，在這種情況下，等離子體與電極之間會(huì)形成一個(gè)直流電偏置，而正反應(yīng)氣體離子則會(huì)加速撞擊被蝕刻材料的表面，離子轟擊能極大地加速表面化學(xué)反應(yīng)，使反應(yīng)產(chǎn)物剝離，正是離子轟擊的存在導(dǎo)致了各向異性腐蝕。等離子體刻蝕技術(shù)蝕刻有很多種類別，純物理蝕刻、純化學(xué)蝕刻等等。蝕刻可分為濕蝕刻和干蝕刻。

在等離子體反應(yīng)體系中通入少量氧氣，在強(qiáng)電場(chǎng)的作用下，等離子體中產(chǎn)生氧氣，光刻膠迅速氧化成易揮發(fā)的氣體狀態(tài)。這種清洗技術(shù)具有操作方便、效率高、外觀干凈、無劃痕等優(yōu)點(diǎn)，在脫膠過程中，使用酸、堿和有機(jī)溶劑，對(duì)??保證產(chǎn)品質(zhì)量很有幫助。因?yàn)槟悴恍枰?，更多的人關(guān)注它。。等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體晶圓清洗工藝中的應(yīng)用隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷發(fā)展，對(duì)工藝技術(shù)，尤其是對(duì)半導(dǎo)體晶圓表面質(zhì)量的要求越來越高。

電漿清洗過程不需化學(xué)試劑，因此不會(huì)造成二次污染，清洗設(shè)備可重復(fù)性強(qiáng)，因此設(shè)備運(yùn)行成本較低，且操作靈活簡(jiǎn)單，能夠?qū)崿F(xiàn)金屬表面整體或某些局部和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗；一些經(jīng)過等離子體清洗后的表面性能還可以得到改善，有利于隨后金屬的加工應(yīng)用。

剝離強(qiáng)度與附著力的關(guān)系

半導(dǎo)體行業(yè)應(yīng)用真空等離子機(jī)技術(shù)已經(jīng)被很多工業(yè)產(chǎn)品生產(chǎn)廠家所熟知，剝離強(qiáng)度與附著力相信在電子行業(yè)也將會(huì)大受歡迎和推崇，這就是真空等離子機(jī)的運(yùn)用，目前國(guó)內(nèi)已經(jīng)有很多半導(dǎo)體廠家在使用這項(xiàng)技術(shù)來處理材料，接下來就講解下它在半導(dǎo)體上的應(yīng)用都解決哪三大工藝難題。

電源和等離子體密度不高，剝離強(qiáng)度與附著力的關(guān)系但功率大，能量高，大功率幾十千瓦。真空等離子清洗機(jī)放電 射頻清洗機(jī)的溫度與正常室溫相同，但當(dāng)然，即使您整天使用真空等離子清洗機(jī)，也需要在冷卻系統(tǒng)中加水。等離子射流的平均溫度在 200 到 250 攝氏度之間。如果距離和速度設(shè)置正確，表面溫度可以達(dá)到70-80°C。