它是一種能產(chǎn)生定向“低溫”（約2000～20000開度）電暈射流的放電裝置，合豐電暈處理機cg2000說明書已廣泛應用于電暈化工、冶金、噴涂、噴焊、機械加工和氣動熱模擬實驗等領域。通過陰極和陽極之間的電弧放電，可以產(chǎn)生自由燃燒、無約束的電弧，稱為自由電弧。其溫度低（約5000～6000開），弧柱厚。

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電暈（點擊查看詳情），是一項高新技術，利用電暈達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。電暈，即物質(zhì)的第四態(tài)，是由部分電子剝奪后的原子和原子電離后產(chǎn)生的電子、正電子組成的電離氣態(tài)物質(zhì)。這種電離氣體由原子、分子、原子團、離子和電子組成。

雖然背段介電間距比同節(jié)點的柵氧化層厚很多，例如先進技術節(jié)點的柵氧化層只有2nm左右，背段介電間距可達35nm左右，但由于材料性能和工藝復雜，低K擊穿問題的挑戰(zhàn)性不亞于柵氧化層擊穿。低K材料SiCOH在高溫高壓應力下的漏電流隨時間的變化，在初始階段可以觀察到明顯的電流下降，這通常是由于電荷被限制在介質(zhì)中所致。

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