表面涂有各種材料，F(xiàn)PC等離子體刻蝕設(shè)備以達到疏水性（疏水性）、吸濕性（吸濕性）、疏油性（耐油性）和疏油性（耐油性）。。等離子發(fā)生器能量密度對H2氣氛中C2H6脫氫反應(yīng)的影響影響。 C2H6脫氫反應(yīng)：隨著H2濃度的增加，C2H6的轉(zhuǎn)化率和C2H2、C2H4、CH4的收率均增加。這表明H2的加入有利于C2H6的轉(zhuǎn)化以及C2H2和C2H4的生成。 CH4。

1990年代以來，F(xiàn)PC等離子體刻蝕設(shè)備人們開始尋求等離子體活化方法和等離子體催化協(xié)同活化方法來進行低碳烷烴的轉(zhuǎn)化反應(yīng)。常壓低溫等離子體中的甲烷轉(zhuǎn)化反應(yīng)：甲烷（CH4）是天然氣的主要成分，占天然氣總量的90%以上。天然氣儲量非常豐富。 2015年世界天然氣探明儲量為1.97X1021M3，我國天然氣可采儲量為4.94X1018M3。近年來，石油資源的緊缺使得天然氣以其豐富的儲量成為21世紀最有前景的能源化工原料替代品之一。

從以上實驗結(jié)果可以推斷出等離子體條件下C2H6轉(zhuǎn)化反應(yīng)的過程，F(xiàn)PC等離子體刻蝕設(shè)備以及等離子體作用下甲烷轉(zhuǎn)化反應(yīng)的機理和等離子體的特性。 (1) 等離子體場產(chǎn)生高能電子。自由電子在電場E的作用下被加速，產(chǎn)生高能電子e*。 e + E → e * (3-26) (2) 引發(fā)自由基反應(yīng)。高能電子與乙烷分子發(fā)生彈性和非彈性碰撞。

等離子體發(fā)生器的表面處理對高分子材料表面的腐蝕，F(xiàn)PC等離子體刻蝕設(shè)備主要考慮等離子體中的電子和離子粒子對材料表面的影響，或等離子體中化學(xué)活性物質(zhì)的化學(xué)腐蝕。材料的表面。當?shù)入x子體在材料表面散射時，材料表面會產(chǎn)生細微的不規(guī)則性。物質(zhì)受到刺激，在等離子體中分解成氣態(tài)成分，擴散回物質(zhì)表面。因此，侵蝕。在再聚合的同時，在被處理材料的表層上形成大量突起，使材料表層變得粗糙，等離子體發(fā)生器增加了材料與粘結(jié)材料的接觸面積。這將提高粘合強度。

FPC等離子體刻蝕設(shè)備

低溫表面等離子處理裝置等離子裝置靠近電極，等離子裝置通過高壓電極、負極接地電極、中心高耐壓絕緣層，產(chǎn)生的離子作用于其上。用于實現(xiàn)材料分子的材料表面。斷鏈、表面蝕刻、氧化等物理化學(xué)反應(yīng)增加了材料的表面粗糙度，增加了表面張力，改善了界面結(jié)合性能。一般來說，表面等離子處理裝置的等離子速率越慢，在相同放電功率下，處理時間越長，等離子作用的程度越大。在普通功率條件下處理后，裝飾單板的表面性能穩(wěn)定而優(yōu)良。

FPC等離子體刻蝕設(shè)備