關于毒性和副作用：濕化學水處理溶液和酸具有極強的毒性和副作用，二氧化硅plasma蝕刻機等離子體清洗反應所需的大部分空氣環(huán)境是無毒的。長時間使用等離子清洗不會傷害相關人員的身體或身體。與傳統(tǒng)的化學水處理相比，等離子有幾個特點。等離子體基于使用電來催化化學物質。等離子體變化而不是熱量，導致超低溫環(huán)境。等離子解決了濕法化學水處理的風險，是獨一無二的。與清洗相比，清洗后沒有廢水。

清潔和恢復活力的方法有很多，二氧化硅plasma蝕刻機化學溶劑一直是最受歡迎的選擇，但超過 50% 的揮發(fā)性有機化合物 (VOC) 排放是由于使用溶劑造成的。表面能是保證附著力和附著力的關鍵因素。涂層是否具有粘附到基材所需的粘合強度很大程度上取決于表面能。良好的附著力需要對材料表面進行超細清洗，并且固體材料的表面能高于液體的界面張力?；诨瘜W溶劑的預處理過程對環(huán)境有害，通常不健康，能耗和處置成本高。

與使用有機溶劑的傳統(tǒng)濕式洗滌器相比，二氧化硅plasma蝕刻機等離子清潔器與使用有機溶劑的傳統(tǒng)濕式洗滌器相比具有九大優(yōu)勢：下一道工序?？梢蕴岣哒麄€工藝線的加工效率。 2.等離子清洗可以讓用戶避免使用對人體有害的溶劑，同時也避免了被清洗物容易濕洗的問題。 3.避免使用三氯乙烷和其他有害的消耗臭氧層物質。因此，這種清洗方法是一種環(huán)保的綠色清洗方法。當世界高度重視環(huán)境保護時，這一點變得越來越重要。四。

3、調整適當?shù)恼婵斩龋哼m當?shù)恼婵斩瓤梢栽黾与娮舆\動的平均自由程，二氧化硅等離子表面處理機器所以從電場中獲得的能量大，適合電離。此外，如果必須保持氧氣的流動，真空度越高，氧氣的相對比例就越高，產生的活性粒子濃度也越高。但是，如果真空度太高，活性粒子的濃度反而會降低。四、氧氣流量的調節(jié)：氧氣流量大，活性粒子密度大，脫膠速度加快，但流量過大，離子復合概率增加，電子平均自由程增加。運動會更短，電離強度也會降低。

二氧化硅等離子表面處理機器

展開泰勒級數(shù)中的方程（1-6）并采用二次近似來執(zhí)行以下操作： NE (R) = NEO [1 + E & PHI; (R) / KTE] (1-7) 方程(1-7) 代入賦值方程(1-5)，得到以下方程。將其代入泊松方程得到以下方程：如圖1-1所示，半徑稱為德拜球。德拜球外的庫侖勢可以忽略不計。德拜長度的物理意義引用如下。 (1) 等離子體對作用在其上的電位有屏蔽作用，屏蔽半徑為德拜長度。

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