2.等離子表面處理對(duì)材料表面的作用是去除表面雜質(zhì)、表面蝕刻、表面交聯(lián)和表面形成。新的化學(xué)結(jié)構(gòu)。冷等離子表面處理使材料表面發(fā)生各種物理化學(xué)變化，二氧化硅刻蝕傾斜角蝕刻和粗化，形成致密的交聯(lián)層，或引入含氧極性基團(tuán)使其親水。和粘合性能。 , 可染色改善顏色、生物相容性和電氣性能。用一些常用等離子體對(duì)硅橡膠進(jìn)行表面處理表明，N2、AR、O2、CH4-O2和AR-CH4-O2等離子體可以提高硅橡膠的親水性。

氧或氮等離子 等離子是應(yīng)用最廣泛的反應(yīng)& LDQUO; 蒸汽& RDQUO; 不僅會(huì)引起聚合物材料的各種結(jié)構(gòu)變化，二氧化硅等離子表面處理設(shè)備而且在氧和氮原子的化學(xué)特異性方面也會(huì)在聚合物鏈中發(fā)生變化。它也可以直接結(jié)合.改變高分子材料的表面?；瘜W(xué)成分。由于高分子材料在加工后會(huì)發(fā)生物理和化學(xué)變化，聚合物的表面自由能顯著提高了聚合物的表面自由能，其表面潤(rùn)濕性、粘附性、印刷性能、鍍金性能等均會(huì)降低。

其中，二氧化硅等離子表面處理設(shè)備物理反應(yīng)機(jī)制是活性顆粒與待清潔表面碰撞，將污染物從ZUI中分離出來(lái)，最后被真空泵吸走?；瘜W(xué)反應(yīng)機(jī)理是各種活性顆粒與污染物的反應(yīng)。它產(chǎn)生揮發(fā)性物質(zhì)并用真空泵將它們吸走。產(chǎn)生性物質(zhì)，達(dá)到清潔的目的。我們的工作氣體經(jīng)常使用氫氣（H2）、氮?dú)猓∟2）、氧氣（O2）、氬氣（AR）、甲烷（CF4）等。

低溫等離子處理分為等離子聚合和等離子表面處理。等離子聚合是利用放電使有機(jī)（有機(jī)）氣態(tài)單體電離而產(chǎn)生各種活性物質(zhì)，二氧化硅刻蝕傾斜角通過這些活性物質(zhì)之間或活性物質(zhì)與單體之間的加成反應(yīng)形成聚合物膜。等離子體表面處理是利用非高分子無(wú)機(jī)氣體（AR2、N2、H2、O2等）的等離子體進(jìn)行表面反應(yīng)，表面反應(yīng)將特定的官能團(tuán)引入到表面并腐蝕表面。

二氧化硅刻蝕傾斜角

2、產(chǎn)品經(jīng)過等離子處理后，如果儲(chǔ)存環(huán)境不理想，表面也會(huì)吸附各種顆粒物和有機(jī)污染物，降低材料的表面能。 3.當(dāng)加工材料含有聚合物和小分子添加劑如聚合物和低抗氧劑、增塑劑、抗靜電劑、潤(rùn)滑劑、著色劑、顏料、穩(wěn)定劑等時(shí)，分子鏈的流動(dòng)性會(huì)提高。儲(chǔ)存時(shí)間越長(zhǎng)，儲(chǔ)存溫度越高，材料的表面能下降得越快。 4、當(dāng)?shù)入x子處理器處理的材料表面受到摩擦等外力作用時(shí)，材料部分的表面分子脫落或復(fù)合，材料表面能降低。。

二氧化硅等離子表面處理設(shè)備