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從反應(yīng)機(jī)制來看,深圳等離子去膠機(jī)廠家等離子體清洗通常包括以下過程:無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子體狀態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表層;被吸附基團(tuán)與固體表層分子反應(yīng)產(chǎn)生產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子分析形成氣相;反應(yīng)殘留物與表層分離。真空等離子體清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型,可以處理金屬、半導(dǎo)體、氧化物、聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烯、環(huán)氧甚至聚四氟乙烯等多種高分子材料,可以實(shí)現(xiàn)整體、局部和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。

這類污染物的去除方法主要是通過物理或化學(xué)方法對(duì)顆粒進(jìn)行清理,深圳等離子去膠機(jī)廠家逐漸減小顆粒與晶圓表面的接觸面積,然后去除。c)金屬:半導(dǎo)體技術(shù)中常見的金屬雜質(zhì)包括鐵、銅、鋁、鉻、鎢、鈦、鈉、鉀、鋰等。這些雜質(zhì)的來源主要包括各種容器、管道、化學(xué)試劑以及半導(dǎo)體晶片加工過程中的各種金屬污染。經(jīng)常使用化學(xué)方法去除這類雜質(zhì),各種試劑和化學(xué)物質(zhì)配制的清洗液與金屬離子反應(yīng)形成金屬離子絡(luò)合物,與晶圓表面分離。