1.1 灰化表面有機層- 表面受到化學沖擊-在真空和瞬間高溫下，等離子處理設備說明書污染物會部分蒸發(fā)-污染物被高能沖擊離子和真空抽屜壓碎- 紫外線破壞污染物等離子處理只能滲透到每秒幾納米的厚度，因此污染層不能做得太厚。指紋也可以。 1.2 氧化物去除金屬氧化物與工藝氣體發(fā)生化學反應該過程必須使用氫氣或氫氣和氬氣的混合物。也可以使用兩步處理過程。表面首先用氧氣氧化 5 分鐘，第二步是用氫氣和氬氣的混合物去除氧化層。

等離子體由許多的活性基團構成，安徽等離子處理設備說明書包含電子，離子，自由基和光子(UV和可見光)，因正負粒子數(shù)量相等呈電中性，因而被稱為“等離子體”，等離子體表面處理主要有兩種反應機理: 自由基與材料產生化學反應以及等離子體產生的物理轟擊。

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采用低溫等離子表面處理設備對金屬表面層進行改性，安徽等離子處理設備說明書可提高金屬表面的抗腐蝕能力，改善金屬表面的粘結性能，提高金屬材料的強度和耐磨性；硫化橡膠和塑膠工業(yè)的表面處理；預處理夾層玻璃，使其更具防水性能，并可印刷、粘接、施膠等隔音、降噪；粘接玻璃鋼制品進行預處理等等離子化；實驗室細胞培養(yǎng)皿均作親水性、粘接性處理，細胞產生后均可勻稱；顯示器壓接預處理，LCD軟膜上的電路板作表面處理，粘接較硬部分作預處理，確保手機外殼和筆記本機殼的牢固粘接。

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低溫等離子表面處理在精密光電領域應用1.清除手機攝像模組支架；2.清除濾光片的微粒和有機物；3.印刷電路板PCB的焊盤清洗和軟硬接合板和FPC微孔除膠；4.行業(yè)內常見的處理材料還有特氟龍電路板、芯片電阻、電阻式保險絲、手機天線、聲學器件、通訊線纜、電子塑膠件。

低溫等離子體處理過的復合材料所進行的ESCA譜的分析：低溫等離子體中的中性粒子，如原子、激發(fā)態(tài)分子或原子等，將其平動能和振動能傳給復合材料，使復合材料表面加熱。而其離解能(氧自由基)則借助在復合材料表面進行的消除、加成、氧化等化學反應而消耗掉，也可以借助在固體表面進行氧自由基復合而形成加熱。

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