等離子體常用的激勵(lì)頻率有三種:激勵(lì)頻率為40kHz的超聲波等離子體、激勵(lì)頻率為13.56MHz的射頻等離子體和激勵(lì)頻率為2.45GHz的微波等離子體。不同的等離子體產(chǎn)生不同的自偏置電壓。超聲等離子體的自偏置約為1000V，拉拔式附著力試驗(yàn)儀射頻等離子體的自偏置約為250V，微波等離子體的自偏置很低，僅為幾十伏特，三種等離子體的機(jī)理不同。
儀（506拉拔式附著力試驗(yàn)儀）.jpg)
第二個(gè)要考慮的問題是選擇等離子清洗機(jī)的頻率。頻率選擇：常用頻率有40KHz、13.56MHz和20Mhz。 40kHz的自偏置電壓約為0V，拉拔式附著力試驗(yàn)儀13.56MHz的自偏置電壓約為250V，20MHz的自偏置電壓較低，這三種激勵(lì)頻率的機(jī)理不同。發(fā)生在 40 kHz 的反應(yīng)是物理反應(yīng)，發(fā)生在 13.56 MHz 的反應(yīng)既是物理反應(yīng)又是化學(xué)反應(yīng)。 20MHz有物理反應(yīng)，但更重要的反應(yīng)是化學(xué)反應(yīng)。
在等離子清洗機(jī)設(shè)計(jì)中，拉拔式附著力試驗(yàn)儀為了將回路中的高頻電流控制在合理范圍內(nèi)，高頻發(fā)生器的輸出阻抗常設(shè)計(jì)為純電阻，電阻值一般為50Ω。高頻放電阻抗一般為容抗，但由于等離子處理裝置的反應(yīng)室內(nèi)放電條件的變化，高頻放電阻抗的值會(huì)發(fā)生變化，所以將匹配網(wǎng)絡(luò)和放電阻抗相加相加。后部模擬負(fù)載阻抗與高頻發(fā)生器的輸出阻抗相匹配，實(shí)現(xiàn)匹配。。
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506拉拔式附著力試驗(yàn)儀
氧自由基在化學(xué)反應(yīng)過程中起著積極的能量傳遞作用。受激狀態(tài)下的氧自由基能量高，容易與物體表層的分子結(jié)構(gòu)融合，產(chǎn)生新的氧自由基。等離子體清洗機(jī)產(chǎn)生的新氧自由基也處于不穩(wěn)定的高能狀態(tài)，可能會(huì)發(fā)生分解反應(yīng)，在變成更小分子的同時(shí)生成新的氧自由基。這個(gè)反應(yīng)過程可能會(huì)繼續(xù)下去，然后分解成H2O和CO2等簡單的分子結(jié)構(gòu)。
大氣壓等離子體清洗儀發(fā)射光譜分為線狀光譜、帶狀光譜和連續(xù)光譜，在等離子體發(fā)射光譜診斷中以線狀光譜和帶狀光譜為主。
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