hydrogenI相信你也必須知道氫,是一種易燃易爆氣體,等離子體表面處理過程中通常不能用于其他,惰性氣體,此外,氫減少屬性,可以適當刪除一些金屬表面氧化層,該特性適用于半導體、電路板等精密領(lǐng)域。氮的相對原子質(zhì)量為14,鎂合金附著力促進劑具有良好的活性,可實現(xiàn)清洗、活化、蝕刻等功能,并在一定程度上防止金屬氧化。因此,氮在實際應用中得到了廣泛的應用。
5.待腔體產(chǎn)生輝光,鎂合金附著力不良根據(jù)實驗需求,手動調(diào)節(jié)流量計旋鈕添加輔助性氣體。6.到達處理時間后,平衡閥自動復原,3秒左右恢復常壓,無進氣聲響時,腔門自動打開。7.打開腔門,取出被處理物,一個處理過程結(jié)束。溫馨提示:以上各命令都可在鍵下終止,回到復位狀態(tài)。所有數(shù)字量都可自由調(diào)整,確認鍵后記憶保存,斷電不丟。
剛撓結(jié)合印制線路板微孔去鉆污使用的氣體是CF4和O2。CF4和O2輸入至等離子機真空腔體后,鎂合金附著力不良在等離子發(fā)生器的高頻高壓電場作用下,CF4,O2氣體發(fā)生離解或相互作用生成含有自由基、原子、分子及電子的等離子氣體氛:O2+CF2→O+OF+CO+COF+F+e+ 等離子體中的自由基,正離子與孔壁上高分子有機材料(C、H、O、N)發(fā)生化學反應。
2.將等離子體清洗氣體引入真空室,鎂合金附著力促進劑并保持其壓力在Pa。根據(jù)清洗材料的不同,可以選擇氧氣、氫氣、氬氣或氮氣分貝。3.在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體分解,通過輝光放電產(chǎn)生電離和等離子體。讓真空室內(nèi)產(chǎn)生的等離子體完全覆蓋待處理工件,開始清洗作業(yè)。一般清洗過程持續(xù)幾十秒到幾分鐘,視材質(zhì)和要求而定。4.清洗完畢后,切斷高頻電壓,通過真空泵抽走氣體和氣化的污物。
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2.正式使用等離子清洗機之前以前需要在操作過程中正確設(shè)置參數(shù),并按照設(shè)備使用說明書仔細操作,未經(jīng)允許不得使用。 3、等離子點火器必須保護好,使等離子清洗機正常開啟。否則,將難以打開或打開異常。 4、如果一次風道不通風,必須確保等離子清洗機的運行時間在規(guī)定的時間內(nèi),不超過設(shè)備說明書規(guī)定的時間。否則,燃燒器將被破壞。 ,帶來很多不便。必需的損失。 5、進行定期維護保養(yǎng)。等離子清洗機的保養(yǎng)和維護。
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