.分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離越長(zhǎng)，與金屬附著力好的粘合劑該區(qū)域的氣體在電磁振動(dòng)的攪動(dòng)下產(chǎn)生的等離子體就越多。高能沖擊作為活性等離子體在真空瞬時(shí)高溫條件下物理沖擊并與孔壁中挖掘出的污染物、殘留的粘合劑、油污和其他污染物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，使物體表面材料變成部分蒸發(fā)的顆?；驓鈶B(tài)物質(zhì)或被真空破壞并被真空排出，以達(dá)到清潔的目的。
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氣體經(jīng)真空室和接地裝置分解，與金屬附著力強(qiáng)的tpu經(jīng)輝光放電電離，產(chǎn)生等離子體。在真空室內(nèi)產(chǎn)生的等離子體完全覆蓋待清潔物體后，開始清潔操作。清潔過(guò)程持續(xù)幾十秒到幾分鐘。整個(gè)過(guò)程是依靠等離子體在電磁場(chǎng)中穿越空間，撞擊待處理表面，達(dá)到表面處理、清洗、刻蝕的效果（清洗過(guò)程為輕微刻蝕）。 ); 污垢和清潔氣體，同時(shí)將空氣送入真空室以恢復(fù)正常大氣壓。在低壓等離子體技術(shù)中，氣體通過(guò)提供能量在真空中被激發(fā)。
2.短時(shí)間內(nèi)可完成等離子體處理器全流程3.等離子處理器簡(jiǎn)單，與金屬附著力好的粘合劑易于操作和維護(hù)。它用少量氣體代替了昂貴的清洗液，而且不能同時(shí)處理廢液。4.等離子處理器可以深入微孔和凹陷完成清潔工作。5.等離子體處理能保證大多數(shù)固體物質(zhì)的處理，因此其應(yīng)用范圍是相當(dāng)常見的。。
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在等離子清洗的情況下，等離子火焰看起來(lái)像普通的火焰，但如果等離子清洗機(jī)使用中頻電源，功率大，能量強(qiáng)，而且沒(méi)有水冷，溫度相當(dāng)高。 .該材料不耐溫，因此您需要注意溫度。等離子清洗機(jī)有兩種常用的電源。一種是13.56KHz的高頻電源。該電源產(chǎn)生高等離子體密度、軟能量和低溫。功率通常為1-2KW。高達(dá)5KW，小幾百W，是常用的等離子電源。還有一個(gè)40KHz的中頻電源，與射頻電源正好相反。
當(dāng)?shù)入x子體折射率n=0時(shí)，波被截?cái)喾瓷?，?dāng)n&rarr；&Infin；波與共振質(zhì)點(diǎn)相互作用并被質(zhì)點(diǎn)吸收。例如，當(dāng)波矢k平行于外加磁場(chǎng)時(shí)，頻率為W=WCE的非常波與繞磁場(chǎng)回旋的電子共振，頻率為W=WCI的正常波與回旋離子共振，分別為電子和離子的回旋頻率。此時(shí)波能被吸收，形成回旋阻尼。對(duì)于熱等離子體，粒子的熱運(yùn)動(dòng)和有限的回轉(zhuǎn)半徑引入了新的模態(tài)和效應(yīng)。
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