氧氣(O2):清洗方式:物理+化學(xué)氮?dú)?氮?dú)?，cobplasma蝕刻N(yùn)2):清洗方式:物理+化學(xué)二氧化碳(CO2):清洗方式:物理+化學(xué)氬氣(氬氣，Ar):清洗方式:物理壓縮空氣(Compressed Air,CDA):清洗方式:采用等離子體清洗，可大大提高清洗效率。

等離子體預(yù)處理工藝可以完全去除玻璃表面的有機(jī)污染物等雜質(zhì)，cobplasma蝕刻機(jī)器提高附著力，從而提高附著力質(zhì)量，降低廢收率。這也適用于熱壓焊接和精密焊接工藝。。去除金屬氧化物化學(xué)清洗:以表面反應(yīng)為基礎(chǔ)的化學(xué)反應(yīng)等離子體清洗，也稱為PE。例如:O2+ E -→2O※+ E - O※+有機(jī)質(zhì)→CO2+H2OAs，從反應(yīng)公式可以看出，氧等離子體可以通過化學(xué)反應(yīng)將不揮發(fā)性有機(jī)質(zhì)轉(zhuǎn)化為揮發(fā)性的H2O和CO2。

也可用于半導(dǎo)體集成電路制造過程中，cobplasma蝕刻機(jī)器在電子顯微鏡下觀察到樣品變薄?；瘜W(xué)濺射可以產(chǎn)生揮發(fā)性產(chǎn)物。常見氣體包括Ar、He、O2、H2、H2O、CO2、Cl2、F2和有機(jī)蒸汽。惰性離子濺射比等離子濺射的化學(xué)反應(yīng)更接近物理過程。等離子體F蝕刻技術(shù)廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體設(shè)備制造。

C2H6和C2H4的脫氫。隨著體系中CO2濃度的增加，cobplasma蝕刻機(jī)器消耗了大量的高能電子C2H6、C2H4和高能電子電子碰撞的概率不斷降低，阻礙進(jìn)一步脫氫，C2H4的生成進(jìn)一步減少。因此，隨著體系中CO2濃度的增加，C2H6和C2H4的摩爾分?jǐn)?shù)呈增加趨勢(shì)，而C2H2的摩爾分?jǐn)?shù)呈下降趨勢(shì)。。等離子體作用下CO2轉(zhuǎn)化的主要反應(yīng)熱解機(jī)理如下:CO2是主要的溫室氣體，主要來自化石燃料燃燒排放。

cobplasma蝕刻

低溫等離子體凈化器是利用等離子體以每秒300萬到5000萬次轟擊惡臭氣體分子，反復(fù)激活、電離、裂解氣體中的各種成分，并進(jìn)行氧化、再通等一系列復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，多級(jí)凈化，向大自然釋放有害物質(zhì)到干凈的空氣中。高壓發(fā)生器形成的低溫等離子體在大量平均能量約5eV的電子的作用下，將苯、甲苯、二甲苯等有機(jī)廢氣分子通過凈化器轉(zhuǎn)化為各種活性粒子，與活空氣中的O2結(jié)合，生成H2O、CO2等低分子無害物質(zhì)，從而凈化廢氣。

在等離子體作用下，負(fù)載過渡金屬氧化物的催化活性按C2烴產(chǎn)率的大小依次為:cr2o3 /Y- al2o3 Fe2O3/Y- al2o3 >TiO2/Y- al2o3 NiO/Y- al2o3 &asymp-Al2O3>氧化鋅/ Y-Al2O3 MoO3 / Y-Al2O3根據(jù)公司的收益率,支持過渡金屬氧化物的催化活性是NiO / Y-al2o3 >.TiO2 / Y-Al2O3> Re2O3 / Y-Al2O3 Fe2O3 / Y-Al2O3 Co2O3 / Y-Al2O3> MoO33 / Y-Al2O3氧化鋅/ Y-Al2O3 Mn2O3 / Y-Al2O3> Na2WO4 / Y-Al2O3 Cr2O3鋁/ Y -型。

等離子處理機(jī)廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子蝕刻、icp、晶圓到橡膠涂層、icp、灰化活化和等離子表面處理等。通過等離子表面處理的優(yōu)點(diǎn)，可以提高表面潤(rùn)濕能力，使各種材料可以進(jìn)行涂覆、電鍍等操作，增強(qiáng)粘接強(qiáng)度和結(jié)合力，還可以去除有機(jī)污染物、油污或潤(rùn)滑脂。

等離子體處理設(shè)備主要包括預(yù)真空室、刻蝕室、送風(fēng)系統(tǒng)和真空系統(tǒng)四部分。等離子體處理設(shè)備的工作原理是化學(xué)過程和物理過程共同作用的結(jié)果。真空壓力下,射頻(RF)力量的基本原則產(chǎn)生的射頻輸出環(huán)耦合線圈,以一定比例混合蝕刻氣體輝光放電的耦合,高密度等離子體、電極的射頻(RF),進(jìn)行等離子體轟擊襯底表面,基片圖形區(qū)半導(dǎo)體材料的化學(xué)鍵被中斷，它與被蝕刻的氣體形成揮發(fā)性物質(zhì)，以氣體的形式離開基片，并被抽離真空管。。

cobplasma蝕刻機(jī)器

準(zhǔn)確地說，cobplasma蝕刻機(jī)器等離子清洗機(jī)是一種表面處理設(shè)備，它看起來平淡無奇，但卻非常有用。為了讓大家更直觀的了解等離子清洗機(jī)是清洗什么，首先讓我們來講解一下等離子加工的作用，幫助大家更好的了解。清洗和蝕刻:可去除無形有機(jī)污染物和表面吸附層，以及工件表面的膜層。超精密的清洗處理可以解決表面附著力問題。例如，清洗時(shí)，工作氣體往往是用氧，它被加速電子轟擊成氧離子、自由基，氧化性很強(qiáng)。

等離子體反應(yīng)室本體的優(yōu)點(diǎn)通常是不銹鋼或鋁材料，cobplasma蝕刻電板基本上選用鋁合金，這兩部分在等離子體加工的時(shí)候吸收了很多熱的產(chǎn)品，沒有任何條件，配套設(shè)施將在傳輸方式和方式上的熱射線分布到環(huán)境溫度較低的地方，例如機(jī)器緊固件、防護(hù)罩和低溫空氣。改進(jìn)方法:在電極和反應(yīng)室中增加冷卻系統(tǒng)，例如電極采用蛇形管附著或通過冰水的方法，可以大大提高冷卻效果。