當?shù)入x子體能量密度為860 kJ/mol時,CCP等離子體清潔機C2H6的轉(zhuǎn)化率為23.2%,C2H4和C2H2的總收率為11.6%。在流動等離子體反應(yīng)器中,一般認為當反應(yīng)氣體的流量恒定時,系統(tǒng)中的高能電子密度及其平均能量主要由等離子體能量密度決定。等離子體功率增加,系統(tǒng)中高能電子密度及其平均能量增加,高能電子與C2H6分子之間的彈性和非彈性碰撞概率和傳遞能量增加,C2H6 CH和CC鍵會增加。
氣體沖洗工藝技術(shù)參數(shù)設(shè)置如下:腔室壓力10-40 mitol,CCP等離子體清潔機工藝氣體流量 -500SCCM,時間1-5S;工藝技術(shù)參數(shù)設(shè)置如下:腔室壓力1040 mitol,工藝氣體流量 -500SCCM,上電極功率250-400W,時間1-10S; 2、等離子清洗法,其特征是使用的氣體為O2; 3、等離子清洗法,其工藝參數(shù)為41 本體沖洗工藝設(shè)置如下:腔室壓力15 mitol,工藝氣體流量300SCCM,時間3S;開始工藝工藝參數(shù)設(shè)置為:腔室壓力15 mitol,工藝氣體流量300 SCCM。
等離子功率增加,CCP等離子體清潔機系統(tǒng)內(nèi)部高能電子密度及其平均能量增加,高能電子與C2H6分子的彈性和非彈性碰撞概率和傳遞能量增加,C2H6的CH鍵和CC鍵易碎,通過濃度破壞形成自由自由基的比例增加,從而反過來增加,增加自由基重組形成產(chǎn)物的可能性。因此,C2H6 的轉(zhuǎn)化率和 C2H2 的產(chǎn)率往往隨著血漿輸出量的增加而增加。
一般等離子粒子的能量為10~幾十eV(電子伏特),CCP等離子體清潔機但鞋用高分子材料中常見的化學鍵的鍵能為CH(碳氫鍵)4.3eV,C=O(碳氧鍵) ). )) 8.0eV,CC(碳-碳單鍵)3.4eV,CC(碳-碳雙鍵)6.1eV。因此,等離子體中大多數(shù)粒子所攜帶的能量遠高于這些化學鍵能,并有足夠的能量引起鞋類高分子材料表面各種化學鍵的斷裂或重組。等離子鞋材表面處理機在鞋材表面處理中具有以下功能。
CCP等離子表面清洗設(shè)備
再加一個點,對于常壓等離子處理設(shè)備,建議選擇帶有流量控制器的專用氣源,以便為設(shè)備提供穩(wěn)定的工作氣體。其次,真空等離子清洗機制造商一般選擇質(zhì)量流量控制器來提供流入控制。工藝氣體真空等離子清洗機一般選用0-50SCCM、0-500SCCM,一些大型低壓真空等離子處理設(shè)備也采用0-1 SLM質(zhì)量流量控制器。了解了以上信息,如何選擇氣體流量控制器?作為真空等離子清洗機的品牌商,我們來聊聊。
鑒于這種作用機制,在功能化聚合物或彈性體的生產(chǎn)過程中將銀顆粒添加到散裝材料中并不是一種有效的制備方法。鑒于這種情況,表面改性似乎更具開創(chuàng)性,尤其是基于大氣壓等離子涂層的低成本改性方法。除了火焰熱分解工藝 [燃燒化學氣相沉積 (CCVD)] 之外,隨著新的大氣等離子體化學氣相沉積 (APCVD) 工藝的發(fā)展,該領(lǐng)域已經(jīng)取得了很大進展。
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如果真空等離子清洗機的真空室是空的,則需要確定是否可以在50S內(nèi)將30PA等真空拉回。加工其他產(chǎn)品時,設(shè)備無報警,真空泵抽氣能力有問題,整個真空發(fā)生系統(tǒng)無漏氣現(xiàn)象。從真空等離子清洗機設(shè)備運行情況來看,設(shè)備運行平穩(wěn)。如果在設(shè)定的時間內(nèi)不能抽反真空,如200S,則會觸發(fā)報警。這主要與被加工產(chǎn)品的材料有關(guān)。這通常被稱為“材料脫氣”。它含有水、溶劑、增塑劑等揮發(fā)性物質(zhì),當真空釋放時,真空度降低,稱為脫氣。
CCP等離子表面清洗設(shè)備
等離子處理材料的第四狀態(tài) 等離子處理的材料的第四狀態(tài) 等離子處理設(shè)備處理的物體表面被清潔,CCP等離子體清潔機油脂和添加劑等成分被去除,表面的靜電被去除。同時活化表面,提高粘合強度,對產(chǎn)品的粘合、噴涂、印刷、封口等均有幫助。等離子技術(shù)基于簡單的物理原理。隨著能量的供給,物質(zhì)的狀態(tài)由固態(tài)變?yōu)橐簯B(tài),由液態(tài)變?yōu)闅鈶B(tài)。當向氣體提供更多能量時,氣體被電離成高能等離子體狀態(tài)。這是物質(zhì)的第四種狀態(tài)。