4、工藝?yán)渌鋮s的一般要求等離子清洗機(jī)的冷卻水溫度一般為20-50°，底漆附著力等級要求應(yīng)根據(jù)實(shí)際情況進(jìn)行調(diào)整。 5、工藝?yán)鋮s水的實(shí)時監(jiān)控 由于工藝?yán)鋮s水是等離子清洗機(jī)的重要組成部分，因此通常應(yīng)實(shí)時監(jiān)控，以防止因零件損壞而導(dǎo)致產(chǎn)品處置。如果在使用過程中出現(xiàn)異常，請立即發(fā)出警報并停止。真空等離子清洗機(jī)是一種低溫處理產(chǎn)品，但為了保證等離子清洗機(jī)的壽命和正常運(yùn)行，等離子清洗機(jī)的一些重要部位需要用冷卻水處理冷卻。

大氣等離子清洗機(jī)建議選用帶有流量控制器的專用氣源來為其提供穩(wěn)定的工作氣體。此裝置Z大的優(yōu)點(diǎn)是攜帶方便、氣源干燥清潔、壓力和流量持續(xù)穩(wěn)定。2 真空等離子清洗機(jī)的流量控制器選擇工藝氣體流量的穩(wěn)定性，琉璃瓦刷什么底漆附著力好會影響工業(yè)型真空等離子清洗機(jī)的處理效果，大多數(shù)工藝都對氣體流量控制要求非常嚴(yán)格，所以工業(yè)型真空等離子清洗機(jī)都是選用質(zhì)量流量控制器來實(shí)現(xiàn)對工藝氣體流量的控制。

2.在電子行業(yè)，底漆附著力等級要求要求高清潔度和嚴(yán)格的免充電放電。大氣壓/寬幅等離子體技術(shù)在電子工業(yè)中的應(yīng)用是針對電子元器件或電路板的加工制造，等離子體技術(shù)的引入是對這些工藝的革新。等離子體技術(shù)不僅能滿足高清潔度的要求，而且處理過程完全是無電位過程，即在等離子體處理過程中，電路板上不會有電位差而引起放電。在引線鍵合過程中，利用等離子體技術(shù)可以有效地對硅片、LCD顯示器或集成電路(IC)等敏感易損部件進(jìn)行預(yù)處理。

不活潑等離子體如氬氣(Ar)、氮?dú)?N2)、氟化氮(NF3)、四氟化碳(CF4)等，琉璃瓦刷什么底漆附著力好氣態(tài)等離子體清洗過程中不同類型氣體的反應(yīng)機(jī)理不同；氣體的性質(zhì)不同，其用于清潔的污染物也須有不同的選擇。等離子清洗機(jī)就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實(shí)現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

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圖1-5 (a)為單間隙單介質(zhì)阻擋放電電抗器的結(jié)構(gòu)。其特點(diǎn)是介電體與高壓電極連接，接地電極與介電體之間有放電面積，結(jié)構(gòu)簡單，常用于制造臭氧等。圖1-5 (b)為雙間隙單介電體阻擋放電電抗器結(jié)構(gòu)。其特點(diǎn)是等離子體清洗儀的上下電極分別與介質(zhì)形成兩個不同的反應(yīng)區(qū)，一般用于產(chǎn)生兩種成分不同的等離子體。圖1-5 (c)為單間隙雙介質(zhì)阻擋放電電抗器結(jié)構(gòu)。

為了探討等離子體作用下純乙烷轉(zhuǎn)化反應(yīng)的可能機(jī)理，在相同等離子體條件下考察了純乙烯的轉(zhuǎn)化反應(yīng)，其反應(yīng)的主要產(chǎn)物是：C2H2和CH4及少量積碳。根據(jù)上述實(shí)驗(yàn)事實(shí)，結(jié)合等離子體作用下甲烷轉(zhuǎn)化反應(yīng)機(jī)理及等離子體特性，推測C2H6在等離子體條件下轉(zhuǎn)化反應(yīng)的歷程如下。（1）等離子體場產(chǎn)生高能電子。自由電子在電場E作用下加速，生成高能電子e*： e + E → e*（3-26）（2）引發(fā)自由基反應(yīng)。

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4.當(dāng)腔體產(chǎn)生輝光時，根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求，打開氧氬閥開關(guān)（打開狀態(tài)為：黃燈亮），手動調(diào)節(jié)流量計(jì)旋鈕添加輔助氣體。5.達(dá)到處理時間后，恢復(fù)平衡閥按鈕，3秒左右恢復(fù)正常壓力。當(dāng)沒有進(jìn)氣聲音時，腔門會自動打開。6.打開腔門，取出處理對象，一個處理過程結(jié)束。在手動狀態(tài)下，可以設(shè)置氧氣閥、氬氣閥、真空泵、射頻電源、平衡閥開關(guān)選擇、數(shù)據(jù)工作。

底漆附著力等級要求