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廣東等離子清洗設(shè)備原理
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等離子設(shè)備應(yīng)力鄰近技術(shù)在半導(dǎo)體工藝刻蝕中的應(yīng)用:應(yīng)力接近技術(shù)(SPT)是近年來在先進(jìn)邏輯芯片技術(shù)中廣泛使用的一種技術(shù)。其技術(shù)原理是在柵源漏區(qū)金屬化(calyde)后,利用等離子器具的刻蝕方法去除部分或全部側(cè)壁,然后沉積應(yīng)力層或雙應(yīng)力層。層區(qū)域,應(yīng)力接近技術(shù)可以將 NMOS 的性能提高 3%。對(duì)于 PNG 來說,應(yīng)力鄰近技術(shù)的引入使性能提升更加明顯。借助 SiGe 技術(shù),金屬附近的應(yīng)力可將性能提高 40%。
等離子表面處理機(jī)清洗技術(shù)的最大特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型,均可進(jìn)行處理,對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗工作原理: 低溫等離子凈化器在外加電場(chǎng)的作用下,廢氣中的污染物質(zhì)可與高能電子、離子、自由基和激發(fā)態(tài)分子等具有較高能量的物質(zhì)發(fā)生反應(yīng),使污染物質(zhì)在極短的時(shí)間內(nèi)發(fā)生分解,使其電離、解離和激發(fā),然后便引發(fā)了一系列復(fù)雜的物理、化學(xué)反應(yīng),使復(fù)雜大分子污染物轉(zhuǎn)變?yōu)楹?jiǎn)單小分子安全物質(zhì),或使惡臭氣體有害物質(zhì)轉(zhuǎn)變成無味無害的氣體。
廣東等離子清洗設(shè)備原理
其工作原理是等離子清洗機(jī)以氣體為清洗介質(zhì),廣東等離子清洗設(shè)備原理有效避免了液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物體造成的二次污染。等離子清洗機(jī)與真空泵相連,在運(yùn)行過程中,清洗室中的等離子輕輕地清洗被清洗物體的表面,讓(有機(jī))污染物在短時(shí)間內(nèi)被徹底清洗干凈。同時(shí),真空泵排出污染物,清潔程度達(dá)到分子水平。除了超強(qiáng)清潔能力外,等離子清潔劑還可以在某些條件下改變某些材料的表面特性。等離子體作用于材料表面,重組表面分子的化學(xué)鍵,形成新的表面特性。