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由于低溫等離子體對物體表面處理的強度小于高溫等離子體，能夠實現(xiàn)對處理物體表面的保護作用，因而應用中我們使用的多為低溫等離子體。低溫等離子體中粒子的能量一般約為幾個至十幾電子伏特，大于聚合物材料的結合鍵能(幾個至十幾電子伏特)，完全可以破裂有機大分子的化學鍵而形成新鍵；但遠低于高能放射性射線，只涉及材料表面，不影響基體的性能。
低溫等離子表面處理在精密光電領域應用1.清除手機攝像模組支架；2.清除濾光片的微粒和有機物；3.印刷電路板PCB的焊盤清洗和軟硬接合板和FPC微孔除膠；4.行業(yè)內常見的處理材料還有特氟龍電路板、芯片電阻、電阻式保險絲、手機天線、聲學器件、通訊線纜、電子塑膠件。
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在使電子加速的機制當中，廣東等離子清洗機廠家直銷理想所滿足的條件是電子在和氬原子產生彈性碰撞并改變運動方向的瞬間電場轉向，電子速度和能量均會得到增長，如果能夠滿足上述條件，哪怕電場強度很弱，電子也能獲得電離能的能量，在此機制中，電場頻率的理想范圍通常在約幾千MHz。 也有學者對上述機制有所延伸，認為從器壁和陰極發(fā)射的二次電子被離子鞘加速后進入輝光放電區(qū)成為電子的附加來源，屬于二次電子倍增現(xiàn)象。
在正常催化條件下 CH4 到 C2 烴的 CO2 氧化反應中，廣東等離子清洗機廠家直銷當反應溫度為 820 ℃時，甲烷轉化率較低，但負載型 Na2WO4 催化劑的 C2 烴選擇性高達 94.5%。（4.73 %）。結論如下。 Na2WO4/Y-Al2O3在等離子等離子體條件下仍具有較高的C2烴選擇性，在30W等離子注入功率下C2烴選擇性為72%。
