當(dāng)應(yīng)力波的壓力峰值在一定時(shí)間內(nèi)超過材料的彈性極限時(shí)，數(shù)控等離子系統(tǒng)參數(shù)設(shè)置材料表面會(huì)形成致密穩(wěn)定的位錯(cuò)結(jié)構(gòu)，可能會(huì)出現(xiàn)孿晶等細(xì)微缺陷。同時(shí)，材料表面被應(yīng)變硬化。殘余壓應(yīng)力的存在改變了結(jié)構(gòu)表面的應(yīng)力場(chǎng)分布，提高了材料的疲勞強(qiáng)度。由于這兩種元素的共同作用，等離子強(qiáng)化后材料的抗疲勞、抗應(yīng)力腐蝕等性能得到很大改善。材料的微觀結(jié)構(gòu)直接影響材料的表面性能。晶粒尺寸是影響材料結(jié)構(gòu)性能的重要因素之一。

熱等離子體裝置利用帶電物體的尖端（如刀形或針形尖端和狹縫電極）產(chǎn)生稱為電暈放電的非均勻電場(chǎng)，等離子系統(tǒng)參數(shù)產(chǎn)生電壓和頻率、電極間距和處理溫度 處理電暈影響的時(shí)間。有影響。電源電壓和頻率越高，加工強(qiáng)度越高，加工效果越好。但是，如果電源頻率過高或電極間隙過寬，則電極之間的離子碰撞次數(shù)過多，會(huì)產(chǎn)生不必要的能量損失。如果電極間距太小，則會(huì)出現(xiàn)感應(yīng)損耗和能量損耗。

在高處理溫度下，等離子系統(tǒng)參數(shù)表面性質(zhì)變化迅速，處理時(shí)間增加，極性基團(tuán)增加，但如果處理時(shí)間過長(zhǎng)，表面會(huì)產(chǎn)生分解產(chǎn)物，形成新的弱界面層。冷等離子裝置在密閉容器中裝置內(nèi)裝有兩個(gè)電極，形成電場(chǎng)，利用真空泵達(dá)到一定的真空度。隨著氣體變稀，分子間的距離和分子與離子的自由運(yùn)動(dòng)距離變長(zhǎng)，它們是在電場(chǎng)的作用下碰撞形成的。此時(shí)等離子體發(fā)出輝光，稱為輝光放電處理。

等離子涂層技術(shù)將數(shù)控刀片基材的高強(qiáng)度和韌性與涂層的高硬度和高耐磨性相結(jié)合，數(shù)控等離子系統(tǒng)參數(shù)設(shè)置在不降低（降低）韌性的情況下提高數(shù)控刀片的耐磨性，提出了以下問題：得到有效解決。刀具材料。硬度、耐磨性、抗彎強(qiáng)度和沖擊韌性之間的矛盾，成為數(shù)控刀片改性的有效途徑之一。由于分工和世界經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展，我國(guó)逐漸成為制造大國(guó)，為我國(guó)數(shù)控刀片行業(yè)的快速發(fā)展提供了難得的機(jī)遇和廣闊的舞臺(tái)。

等離子系統(tǒng)參數(shù)

對(duì)于一些有特殊用途的材料，等離子清洗機(jī)的輝光放電不僅增強(qiáng)了這些材料在清洗過程中的附著力、相容性和潤(rùn)濕性，還可以達(dá)到消毒殺菌的效果。等離子清洗劑廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微流體工程等領(lǐng)域。等離子清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn)（與傳統(tǒng)工藝相比）：1?？刹捎镁軘?shù)控技術(shù)，清洗自動(dòng)化程度高，提供高精度控制裝置，時(shí)間控制精度高。表面有一層損傷沒有經(jīng)過等離子清洗，保證了產(chǎn)品的表面質(zhì)量。

由于等離子體中存在電子、離子和自由基等反應(yīng)性離子，等離子體本身很容易與固體表面發(fā)生反應(yīng)。等離子清洗機(jī)技術(shù)的一個(gè)特點(diǎn)是無論要處理的基材類型如何，都可以進(jìn)行處理。乙烷、環(huán)氧樹脂甚至 Teflon 都易于處理，可以進(jìn)行全面和部分清潔以及復(fù)雜的結(jié)構(gòu)。等離子清洗還具有以下特點(diǎn)：易于使用的數(shù)控技術(shù)，先進(jìn)的自動(dòng)化，高精度的控制裝置，高精度的時(shí)間控制，正確的等離子清洗，表面不產(chǎn)生損傷層。表面質(zhì)量有保證。

（4）功能強(qiáng)大：只涉及高分子材料的淺表層（10- 0A），可以賦予高分子材料一種或多種新的功能，同時(shí)保留材料本身的性能。 (5)成本低：裝置簡(jiǎn)單，操作維護(hù)方便，可連續(xù)運(yùn)行。大多數(shù)氣體可以替代數(shù)千公斤的清洗液，清洗成本明顯低于濕法清洗。 (6)過程全程可控：大部分參數(shù)可在計(jì)算機(jī)上設(shè)定，并與數(shù)據(jù)一起記錄，便于質(zhì)量控制。 (7)被加工物的形狀不限。它大而簡(jiǎn)單，可以處理復(fù)雜的零件和紡織品。

這種情況往往導(dǎo)致湍流的發(fā)生和異常輸運(yùn)現(xiàn)象的形成。有許多類型的微觀不穩(wěn)定性。主要原因是：由兩束互易粒子引起的二次流動(dòng)不穩(wěn)定性、各種梯度引起的漂移運(yùn)動(dòng)引起的漂移不穩(wěn)定性、速度分布異常引起的損失錐不穩(wěn)定性、波相互作用引起的波和參數(shù)不穩(wěn)定性等。微不穩(wěn)定性理論是建立在動(dòng)態(tài)理論的基礎(chǔ)上的。換句話說，它是從 Vlasov 方程研究的。

數(shù)控等離子系統(tǒng)參數(shù)設(shè)置

對(duì)于表面有小凹槽或螺紋等復(fù)雜形狀的基板，數(shù)控等離子系統(tǒng)參數(shù)設(shè)置等離子氮化器的參數(shù)在復(fù)雜形狀附近有所不同，從而改變了環(huán)境電場(chǎng)，進(jìn)而改變了離子濃度和影響。在那個(gè)地區(qū)?；盍?。使用傳統(tǒng)的等離子滲氮增加了離子在等離子鞘層內(nèi)發(fā)生碰撞的可能性，導(dǎo)致離子能量降低和更多氧化物金屬表面（如不銹鋼）的更多活化，這將是困難的。這種復(fù)雜形狀的基板條件也導(dǎo)致不同區(qū)域的過熱和氮化性能與其他基板條件相比。

事實(shí)上，數(shù)控等離子系統(tǒng)參數(shù)設(shè)置影響整個(gè)等離子體處理工藝處理效果的因素包括工藝溫度、氣體分布、真空度、電極設(shè)置和靜電保護(hù)等。等離子表面處理工藝的最大特點(diǎn)是處理所有材料的材料，如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子量有機(jī)聚合物（聚丙烯、聚酯、聚酰亞胺、聚氯乙烯、環(huán)氧、聚四氟乙烯）。做。 ，并可實(shí)現(xiàn)整體、局部和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的表面處理。處理后的重要作用之一是增加基材表面的活性（附著力）。