射流低溫等離子表面處理機(jī)放電(JETDISCHARGE) 射流低溫等離子表面處理機(jī)放電(JET DISCHARGE)。噴射旋轉(zhuǎn)大氣壓等離子體操作說明在大氣壓等離子體技術(shù)中,jet plasma公司通過提供能量在真空中激發(fā)氣體。產(chǎn)生高能離子和電子以及其他反應(yīng)性粒子以形成等離子體。這使您可以非常有效地更改表面。活化是由等離子體射流中所含的反應(yīng)粒子(自由基)的反應(yīng)引起的。此外,表面散射的粘附顆??梢酝ㄟ^壓縮空氣加速的等離子射流去除。
Drugs 和其他 KIM 等人使用大氣 DBD 放電等離子體制備負(fù)載型催化材料。 JEON和LEE成功制備了AU納米催化材料。利用大氣壓DBD放電氫冷卻等離子體,jet plasma公司有效地將PD2+還原為PD元素。如XU等常壓冷等離子體處理產(chǎn)生的PD/TIO2具有較高的光催化活性。 QI等人采用常壓DBD放電等離子體法獲得了PD/C催化材料,所得樣品粒徑小,在低溫下表現(xiàn)出較高的催化活性。
?? (4)化學(xué)熱處理?使工件與化學(xué)物質(zhì)接觸加熱,jet plazma 等離子體去膠機(jī)使某些元素在高溫下滲入工件表面的過程稱為化學(xué)熱處理,如滲氮或滲碳。 ?? (5)表面處理?通過焊接將沉積在工件表面的金屬堆積起來形成焊層的過程稱為表面處理,如表面耐磨合金。低溫等離子技術(shù)的電暈加工應(yīng)用 YTPG-2000 Jet低溫等離子噴槍加工技術(shù)目前加工各種高品質(zhì)材料,印刷、吹膜、層壓、涂層、光伏、金屬材料、紡織材料等。
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使用公司的等離子清洗機(jī)有什么特點?使用公司的等離子清洗機(jī)有什么特點?處理的高活化特性。工業(yè)應(yīng)用需要廣泛粘合玻璃、金屬、塑料、布和薄膜。在塑料粘合領(lǐng)域有無數(shù)的應(yīng)用。除了塑料之間的粘合劑外,等離子清潔劑還成功地應(yīng)用于組件組裝過程中的結(jié)構(gòu)粘合劑。例如,在汽車工業(yè)中,散熱器和重型卡車的粘合表面都經(jīng)過等離子預(yù)處理。等離子清洗機(jī)預(yù)處理后,等離子清洗機(jī)無需額外的清洗或其他預(yù)處理工藝即可確保高粘合強(qiáng)度。
等離子清潔劑可用于根據(jù)特定工藝要求對材料表面進(jìn)行有效預(yù)處理。公司專業(yè)從事等離子清洗機(jī)的研發(fā)和應(yīng)用。除了清潔表面外,還有一種化學(xué)表面微改性(通常在 10 NM 以內(nèi)),可以去除表面污漬(尤其是有機(jī)物和-OH)。 , 由于化學(xué)反應(yīng)增加了親水性)。原理可以看等離子清洗機(jī)的原理。等離子清洗機(jī)中常用的激發(fā)頻率有三種。激發(fā)頻率為40KHZ的等離子體為超聲波等離子體,等離子體為13.56。
等離子清洗設(shè)備材料膠機(jī)參數(shù):序列號型號CPC-ACPC-BCPC-C1機(jī)艙尺寸275X110(直徑)MM295X150(直徑)MM295X150(直徑)MM2機(jī)艙容量2.6L5.2L5.2L3RF頻率40KHZ40KHZ13.56MHZ4RF功率10-200W無限可調(diào) 10-200W 無級可調(diào) 10-150W 無級可調(diào) 59 秒 1-99 分 59 秒 8 氣體穩(wěn)定時間 1 分鐘 1 分鐘 1 分鐘 910 PA 10 或更小 100 PA 或更小 真空度 等離子激發(fā)方式 容量 容量 容量 11 尺寸 L * W*H480*450*265MM520*450*290MM520*450*290MM12整機(jī)重量15KG 20KG 25KG 等離子墊圈組成 等離子墊圈組成等離子清洗機(jī),英文名稱(PLASMA CLEANER),又稱等離子清洗機(jī)、等離子清洗機(jī)、等離子清洗設(shè)備、等離子蝕刻機(jī)、等離子表面處理機(jī)、等離子清洗機(jī)、等離子清洗機(jī)、等離子脫膠機(jī)、等離子清洗設(shè)備。
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等離子清洗機(jī)的范圍主要包括醫(yī)療設(shè)備、糊盒、光纜廠、電纜廠、大學(xué)實驗室等。實驗室設(shè)備清洗、鞋廠鞋底、鞋面粘接、汽車玻璃鍍膜清洗、等離子清洗劑處理加強(qiáng)粘接、燈、玻璃與鐵、纖維、塑料、紙張、印刷、光電材料或金屬的粘接等等, 可以用等離子清洗機(jī)處理。等離子清洗機(jī)等離子清洗機(jī)又稱等離子蝕刻機(jī)、等離子脫膠機(jī)、等離子活化劑、等離子清洗機(jī)、等離子表面處理機(jī)、等離子清洗系統(tǒng)等。
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