另兩種常用的氣體是氬氣和氦氣，ps表面附著力助劑具有擊穿電壓低、等離子穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)，其中氬原子的電離能ε為15.75eV，氬等離子中含有大量的亞穩(wěn)態(tài)的原子，是理想的物理反應(yīng)氣體?！　≡趯?shí)際清洗中，單一的利用物理或化學(xué)作用效果欠佳，更多是充入混合氣體，同時(shí)利用兩種或以上的混合氣體以得到更好的清洗效果。

等離子體表面處理材料的表面改性可分為化學(xué)改性和物理改性?；瘜W(xué)改性是指使用化學(xué)藥劑改善材料表面形態(tài)，如何提高ps表面附著力包括酸洗、堿洗、過(guò)氧化物或臭氧處理。物理改性是指利用物理過(guò)程改善材料的表面形態(tài)，包括表面處理、光輻射處理、火焰處理、機(jī)械力化學(xué)處理、涂層處理以及添加表面改性劑等。等離子體表面處理技術(shù)(PSU)作為一種新型的材料表面處理技術(shù)，以其低能耗、低污染、處理時(shí)間短、效果明顯等優(yōu)點(diǎn)受到人們的廣泛關(guān)注。

PFM的主要作用是有效控制進(jìn)入等離子體的雜質(zhì)，ps表面附著力助劑有效去除輻射到材料表面的熱功率，以及其他元件在異常停機(jī)時(shí)受到等離子體沖擊造成的損壞，起到保護(hù)作用。同時(shí)，面向等離子的材料必須與反應(yīng)堆的使用壽命、可靠性和維護(hù)性相一致。因此，等離子材料面臨的一般要求是耐高溫、低濺射、低氫（氚）保留以及與結(jié)構(gòu)材料的相容性。碳基材料和鎢是最有前途的PsFM 候選材料。對(duì)于 PFM，有兩個(gè)問(wèn)題需要解決。

低溫等離子表面清洗設(shè)備不僅可以處理注塑殼體留下的油污，如何提高ps表面附著力還可以活化成型殼體表面，加強(qiáng)其印刷、涂布等粘接（效果），使殼體上的涂層與基材連接牢固，涂布效果均勻，美觀更美觀，耐磨性大大提高，長(zhǎng)期使用也不會(huì)出現(xiàn)涂布現(xiàn)象。同時(shí)，低溫等離子體表面清洗設(shè)備產(chǎn)生的電離等離子體是電中性的，不會(huì)損傷保護(hù)膜、ITO膜和偏振濾光片。該技術(shù)采用/低溫等離子體表面清洗裝置，可實(shí)現(xiàn)無(wú)化學(xué)溶劑的在線清洗。。

ps表面附著力助劑

第二、塑料產(chǎn)品與橡膠模具在使用低溫等離子清洗機(jī)時(shí)，要特別注意紅色警示燈，在設(shè)備運(yùn)行或抖動(dòng)頻繁時(shí)，紅色警示燈常亮，此時(shí)應(yīng)立即按下復(fù)位鍵觀察設(shè)備，若設(shè)備仍有異常，應(yīng)立即停止設(shè)備運(yùn)行，然后進(jìn)行故障檢查，避免設(shè)備損壞。

2）在IC芯片制作領(lǐng)域，真空等離子設(shè)備處理加工工藝已成為不可替代的成熟加工工藝，無(wú)論在芯片上注入離子源，或者是晶元涂層，也可以實(shí)現(xiàn)我們低溫等離子表面處理設(shè)備：將氧化膜移除到晶元表層.有機(jī)物去掩膜等超凈化處理和表層活化提升晶元表層的浸潤(rùn)性。3）IC芯片中含有引線框時(shí)，所述晶片上的電氣連接與導(dǎo)線框上的焊盤連接，再將導(dǎo)線框焊接到封裝上。

隨著間距的增加，清洗速度會(huì)逐漸降低，但均勻度會(huì)逐漸提高。 2、電源和頻率對(duì)等離子清洗效果的影響電源電源對(duì)等離子的各種參數(shù)有影響，如電極溫度、等離子產(chǎn)生的自偏壓、等離子產(chǎn)生的自偏壓。清潔效率。隨著輸出功率的增加，等離子清洗速率逐漸增加并穩(wěn)定在峰值，但自偏壓隨著輸出功率的增加而增加。由于功率范圍基本恒定，所以頻率是影響等離子體自偏壓的重要參數(shù)，隨著頻率的增加，自偏壓逐漸減小。

等離子體清潔器在其它航空商品中也有眾多應(yīng)用，例如：1)門窗密封件的加工處理，以加強(qiáng)密封性效果；2)儀表板涂布前進(jìn)行等離子處理，可解決商品掉漆問(wèn)題；3)控制面板粘接前進(jìn)行加工處理，可加強(qiáng)粘接強(qiáng)度；4)能除去精密部件上殘留的油和其它污染物。 總體而言，等離子清洗機(jī)不僅有成熟的技術(shù)優(yōu)勢(shì)，還有不可估量的社會(huì)效益。由于相關(guān)技術(shù)和工藝的不斷完善和成熟，相信等離子清洗機(jī)也可以廣泛應(yīng)用于航空商品的生產(chǎn)制造和加工。。

如何提高ps表面附著力