本發(fā)明通過(guò)將電路板放置于真空反應(yīng)系統(tǒng)中，氧氣等離子體清潔器通入少量的氧氣，加上高頻高壓，由高頻信號(hào)發(fā)生器產(chǎn)生高頻信號(hào)，在石英管中形成強(qiáng)大的電磁場(chǎng)，使氧離子化，使氧離子、氧原子、氧分子、電子等混合物質(zhì)形成輝光柱?；钚栽討B(tài)氧能迅速將殘余膠體氧化為揮發(fā)性氣體，并使之揮發(fā)而被帶走。隨著現(xiàn)代半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，對(duì)蝕刻加工的要求越來(lái)越高，多晶硅片等離子蝕刻清洗設(shè)備也應(yīng)運(yùn)而生。產(chǎn)品穩(wěn)定性是保證產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)程穩(wěn)定，重復(fù)性的關(guān)鍵因素之一。

因在常壓等離子處理薄膜過(guò)程中，氧氣等離子體的工作原理本實(shí)驗(yàn)考慮了多種參數(shù)包括時(shí)間、功率、氣體流量、氧氣含量、氦氣流量、噴頭高度，實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:薄膜的表面形貌發(fā)生了明顯的變化，化學(xué)結(jié)構(gòu)稍有變化;刻蝕率和溶解厚度隨時(shí)間延長(zhǎng)先逐漸增加，達(dá)到最大值后又有所下降;在氧含量比例一定的情況下，刻蝕率隨氦氣/氧氣混合氣體流量增大而增大;氦氣流量的增加使得刻蝕率先增加后減小;刻蝕率隨功率的增大而增大，隨噴頭距離的增加而減小。

2.2 臭氧的產(chǎn)生是由于含氧氣體在等離子體低溫放電過(guò)程中分解成氧原子，氧氣等離子體的工作原理部分氧原子通過(guò)碰撞反應(yīng)形成臭氧。一個(gè)臭氧分子由三個(gè)氧原子組成。 , 它的化學(xué)物質(zhì)分子式是O3，聞起來(lái)像魚。 3.1 等離子清洗機(jī)產(chǎn)生的臭氧對(duì)人體有危害嗎？臭氧是由攜帶氧原子的氧分子組成，其比重高于氧氣，所以臭氧易溶于水，易分解，常溫下可還原成氧氣。因此，臭氧是一種暫時(shí)的條件，在一定條件下可以還原為穩(wěn)定的氧氣。

線性等離子清洗機(jī)10大應(yīng)用解決材料表面難粘接問(wèn)題：典型的線性等離子清洗機(jī)應(yīng)用等離子體是在氣體受到高能量放電時(shí)產(chǎn)生的：氣體分解成電子，氧氣等離子體的工作原理離子，高度活性自由基，短波紫外光子和其他激發(fā)粒子。這些物質(zhì)當(dāng)被高能量放電激發(fā)時(shí)有效地擦洗待清潔的表面。當(dāng)腔室含有一定量的活性氣體如氧氣時(shí)，它將化學(xué)反應(yīng)以及機(jī)械轟擊技術(shù)結(jié)合起來(lái)，從而去除有機(jī)化合物和殘留物。

氧氣等離子體清潔器

D、紫外線與物體外表的反響紫外線具有很強(qiáng)的光能，（h）可使附著在物體外表的物質(zhì)的分子鍵發(fā)生開裂而分化，并且紫外線具有很強(qiáng)的穿透能力，可透過(guò)物體的表層并深化達(dá)數(shù)微米而發(fā)生效果。綜上所述，可知等離子清洗機(jī)是利用等離子體內(nèi)的各種具有高能量的物質(zhì)的活化效果，將吸附在物體外表的塵垢徹底剝離去除。下面以氧氣等離子體去除物體外表油脂塵垢為例，闡明這些效果。

通常使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵，高頻電源通常用13.56MHz的無(wú)線電波，設(shè)備的運(yùn)行過(guò)程如下：（1）被清洗的工件送入真空室并加以固定，啟動(dòng)運(yùn)行裝置，開始排氣，使真空室的真空程度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時(shí)間大約需要2min。（2）向真空室引入等離子清洗用的氣體，并使其壓力保持在 pa。根據(jù)清洗材質(zhì)的不用，可分別選用氧氣、氫氣、或氮?dú)獾葰怏w。

等離子體在電磁場(chǎng)內(nèi)的空間中行進(jìn)并與要處理的表面碰撞。通過(guò)處理、清洗、蝕刻效果、等離子處理工藝選擇的表面，去除表面油污和表面氧化物，焚燒表面（有機(jī)物）等化學(xué)物質(zhì)到達(dá)表面，可實(shí)現(xiàn)重塑。真空等離子清洗機(jī)工作流程：真空等離子清潔器包括反應(yīng)室、電源和真空泵組。通過(guò)將樣品放入反應(yīng)室，真空泵在一定程度上啟動(dòng)真空泵，打開電源產(chǎn)生等離子體，然后將氣體引入反應(yīng)室，反應(yīng)室中的等離子體變成反應(yīng)等離子體，這些。

這也是與真空等離子清洗的區(qū)別之一。等離子真空吸塵器工作時(shí)，腔內(nèi)的離子是定向的。只要材料在型腔的外露部分，任何表面或角落都可以清洗。其次，在氣體的使用方面，大氣等離子體只需要在工作時(shí)連接壓縮空氣即可。當(dāng)然，如果你想要更好的結(jié)果，你可以直接連接氮?dú)?。真空等離子清潔器使用更多氣體您可以選擇不同的氣體進(jìn)行匹配。這極大地改善了材料表面氧化物和納米級(jí)微生物的去除。

氧氣等離子體清潔器

7、經(jīng)過(guò)處理后，氧氣等離子體的工作原理可以用普通的膠水來(lái)粘合箱體，降低了生產(chǎn)成本。而我們的電漿清洗機(jī)正好能解決這些問(wèn)題，這樣的時(shí)候，很多研發(fā)機(jī)構(gòu)也已經(jīng)感覺到了問(wèn)題的嚴(yán)重性，并且投入了大量的資金來(lái)引進(jìn)電漿清潔器的表面處理技術(shù)，相信不久我們的電漿清潔器將會(huì)有一個(gè)新的天地，為全球的工業(yè)品創(chuàng)造新的價(jià)值，更好的服務(wù)。

3.等離子清洗機(jī)/等離子清洗設(shè)備的結(jié)構(gòu)和工作原理研究等離子清洗機(jī)/等離子清洗設(shè)備的基本結(jié)構(gòu)調(diào)整設(shè)備的特征參數(shù)以優(yōu)化工藝流程，氧氣等離子體的工作原理但等離子清洗設(shè)備的基本結(jié)構(gòu)幾乎是一樣。是一樣的?？刂葡到y(tǒng)和其他組件。通常使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵，高頻電源通常使用13.56MHz的無(wú)線電波。該設(shè)備的操作過(guò)程如下。 (1)待清洗工件固定真空室，啟動(dòng)操作裝置，開始排氣。結(jié)果，真空室的真空度變?yōu)榧s10Pa的標(biāo)準(zhǔn)真空度。