等離子設(shè)備在處理過程中，表面反應(yīng)主要是化學(xué)反應(yīng)。等離子體清洗，習(xí)慣上稱為等離子清洗，很多氣體的等離子態(tài)都能形成高活性顆粒。由化學(xué)式可知，典型的pe工藝為氧或氫等離子體工藝，歷經(jīng)與氧等離子的化學(xué)反應(yīng)，可將非揮發(fā)性有機(jī)物轉(zhuǎn)化為易揮發(fā)的CO2和水汽。除去污垢，使表面潔凈；利用離子氫氣可以通過化學(xué)反應(yīng)除去金屬表面的被氧化層，清潔金屬表面。
由反應(yīng)性氣體離子化形成的高活性反應(yīng)顆粒，在一定條件下，它與被清洗物的表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，其生成物為易揮發(fā)物質(zhì)，可被抽除；而對于所清除氣體的化學(xué)成分，選擇適當(dāng)?shù)姆磻?yīng)氣體組分至關(guān)重要。pe具有表面改性、清洗速度快、選擇性好、對有機(jī)污染等優(yōu)點(diǎn)。缺陷在于可能會(huì)形成氧化物。
物理反應(yīng)的等離子處理設(shè)備，又稱濺射腐蝕和離子銑IM。表面物理濺射是等離子體中的正離子在電場作用下獲得能量以轟擊表面，與表面分子片斷和原子發(fā)生碰撞，使污染物質(zhì)從表面除去，并且能使表面在分子級范圍內(nèi)轉(zhuǎn)變微觀形態(tài)粗糙化，從而改善表面的粘結(jié)力。氬本身是一種惰性氣體，等離子態(tài)的氬氣不與表面反應(yīng)，其過程為氬等離子通過物理濺射來凈化表面。等離子體物理清洗并不會(huì)形成被氧化不良反應(yīng)，保持被清洗物化學(xué)純凈，腐蝕各向異性，缺點(diǎn)是對表面有很大的損傷和熱效應(yīng)，選擇性差，速度低。24753