微波等離子清洗設(shè)備與射頻等離子清洗設(shè)備對(duì)比目前，等離子激勵(lì)電源頻率主要有四種：直流、低頻、射頻、微波。這幾種是依據(jù)國(guó)際通信機(jī)構(gòu)規(guī)定可以使用的頻率。射頻等離子清洗設(shè)備使用頻率為13.56MHz，微波等離子清洗設(shè)備使用設(shè)備為2.45GHZ。
微波等離子清洗設(shè)備與射頻等離子清洗設(shè)備對(duì)比
與射頻等離子清洗設(shè)備的匹配性相比,微波等離子清洗設(shè)備的匹配性更加困難,主要由于微波反饋過程中,如果不能精確的進(jìn)行負(fù)載調(diào)節(jié),微波源將很容易造成損傷。所以說精確的匹配性調(diào)節(jié)是獲得優(yōu)良清洗效果的必要條件。微波源配備合適的匹配系統(tǒng)可以根據(jù)清洗腔體及產(chǎn)品等清洗條件的不同進(jìn)行負(fù)載阻抗自動(dòng)調(diào)節(jié)，使清洗效果及一致性達(dá)到最佳。
微波頻率相對(duì)于射頻有兩個(gè)決定性優(yōu)勢(shì)，其一是離子濃度最高,在微波等離子里的反應(yīng)微粒數(shù)量要遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于在射頻等離子里的反應(yīng)等離子數(shù)量，這會(huì)使反應(yīng)速度更快，反應(yīng)時(shí)間更短。其二，等離子的一個(gè)自然特性是可以在直接暴露于等離子的基材上生成一種自偏壓。這種自偏壓要取決于等離子的激勵(lì)頻率,比如頻率為2.45GHz的微波一般僅要求5-15伏,而在同樣的情況下,射頻等離子自偏壓卻要求100伏。
頻率越高，等離子體離子密度越高；頻率越高，自偏壓越低。綜上所述，相對(duì)于射頻等離子清洗機(jī)，微波等離子清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn)在于：（1）無內(nèi)部電極，可避免放電污染，能量轉(zhuǎn)換效率高，可產(chǎn)生大范圍的高密度等離子體；（2）無損傷工藝，自偏壓極小；（3）高電子密度，制備各種功能薄膜材料的速率較快；（4）離子沖擊小，對(duì)器件的損傷?。唬?）不產(chǎn)生紫外線輻射。正是因?yàn)榫哂幸陨蟽?yōu)點(diǎn)，微波等離子在一些工藝中具有不可替代性，例如一些電敏感器件制程中的去膠和清洗。
以上就是國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)廠家關(guān)于微波等離子清洗設(shè)備與射頻等離子清洗設(shè)備對(duì)比的簡(jiǎn)單介紹，由于激發(fā)頻率高，離子動(dòng)能小，化學(xué)等離子作用在微波等離子清洗設(shè)備中占主要部分，可以實(shí)現(xiàn)更均勻有效地清洗，在清洗中沒有物理等離子體所產(chǎn)生的物理沖擊和濺射現(xiàn)象，在高可靠性要求的器件尤其是軍用器件生產(chǎn)工藝過程中，微波等離子清洗設(shè)備成為關(guān)鍵首選的設(shè)備。微波等離子清洗設(shè)備與射頻等離子清洗設(shè)備對(duì)比00224436