超聲波清洗主要根據(jù)空化效應達到清洗目的,壓鑄鋁噴涂附著力屬于濕法處理,清洗時間長,且依賴清洗液的去污性能,增加了廢液處理問題。等離子體清洗技術(shù)是現(xiàn)階段廣泛應用的技術(shù)。等離子體清洗技術(shù)簡單環(huán)保,清洗效果明顯,對盲孔結(jié)構(gòu)非常有效。等離子體清洗機設備清洗是高度活化的等離子體在電場作用下定向運動,與孔壁鉆孔污物發(fā)生氣固化學反應。同時,產(chǎn)生的氣體產(chǎn)物和一些未反應的顆粒由吸入泵排出。等離子體在清洗HDI板盲孔時一般分為三步。

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大家都知道,壓鑄鋁噴涂附著力不好太陽能光伏產(chǎn)業(yè)鏈對清潔生產(chǎn)工藝非常嚴格。即使太陽能極的硅片不需要電子級,69的純度也很高。等離子清洗機工藝誕生后,等離子體清洗工藝已成為硅片上或多或少污染物清洗過程中常用的方法之一。等離子清洗機是一個結(jié)合等離子體物理、等離子體化學和氣固相界面的化學反應的新興領(lǐng)域。

二、等離子體發(fā)生器激勵頻率分類(1)超聲等離子體:激發(fā)頻率40kHz,壓鑄鋁噴涂附著力不好在處理表面引起物理反應;②射頻等離子體:激發(fā)頻率13.56MHz,在處理表面引起物理反應和化學反應;③微波等離子體:激發(fā)頻率2.45GHz,用于表面處理,產(chǎn)生化學反應。。

2. 接下來,壓鑄鋁噴涂附著力將等離子清洗氣體引入真空室以穩(wěn)定室內(nèi)壓力。根據(jù)清洗劑的不同,可以使用氧氣、氬氣、氫氣、氮氣和四氟化碳等氣體。 3、在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體分解并輝光放電,產(chǎn)生等離子體并電離。產(chǎn)生等離子,覆蓋在真空室內(nèi)產(chǎn)生的等離子處理的工件,開始清洗。清潔過程通常需要幾十秒到幾十分鐘,具體取決于正在處理的材料。 4、清洗后,關(guān)閉電源,用真空泵排出氣體和汽化的污垢,完成清洗。

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研究發(fā)現(xiàn),當?shù)入x子體刻蝕溫度低于-℃時,該材料刻蝕過程中產(chǎn)生的低K損傷會急劇減小,其介電常數(shù)不會明顯增加,從而材料特性不會發(fā)生明顯變化。同時比較了不同偏壓下刻蝕工藝對介質(zhì)材料的損傷。利用等離子體表面處理器進行低偏壓或零偏壓超低溫刻蝕,可以明顯降低低介電常數(shù)材料的PID,同時材料的介電性能與刻蝕前相比無明顯變化。

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