接觸孔技術(shù)工藝集成發(fā)展過(guò)程中的兩個(gè)關(guān)鍵里程碑是之前的 COSI（鈷）為 65NM 技術(shù)節(jié)點(diǎn)使用 NISI（鎳金屬硅化物）來(lái)降低接觸電阻和信號(hào)金屬硅化物）開(kāi)始被用作接觸金屬。 延遲并使用來(lái)自 45NM 技術(shù)節(jié)點(diǎn)的高應(yīng)力硅硅材料來(lái)提高器件性能并用作接觸蝕刻停止層（CONTACT ETCH STOP LAYER，opp油墨附著力增進(jìn)劑CESL）。
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表面等離激元&基本原理表面等離激元場(chǎng)分布特征表面等離激元是由自由振動(dòng)的電子和光子在金屬表面相互作用產(chǎn)生的沿金屬表面?zhèn)鞑サ碾娮用芏炔āＦ洚a(chǎn)生的物理原理如下：如圖所示，在兩個(gè)半無(wú)限各向同性介質(zhì)組成的界面上，介質(zhì)的介電常數(shù)為正實(shí)數(shù)，金屬的介電常數(shù)為實(shí)部為負(fù)的復(fù)數(shù)。根據(jù)麥克斯韋方程，結(jié)合邊界條件和材料特性可以計(jì)算表面等離子體的場(chǎng)分布和色散特性。
當(dāng)然，濕法清洗仍然在清洗過(guò)程中占主導(dǎo)地位。但在對(duì)自然環(huán)境的破壞和材料損失方面，干洗遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于濕洗，這應(yīng)該是未來(lái)清潔方式發(fā)展的方向。從事等離子清洗設(shè)備行業(yè)10年，是國(guó)內(nèi)最早研發(fā)真空及低溫等離子工藝、射頻及微波等離子工藝產(chǎn)品的高新技術(shù)企業(yè)之一。在這個(gè)環(huán)節(jié)，公司產(chǎn)品研發(fā)的等離子清洗設(shè)備包括常壓、真空、在線(xiàn)和常壓等離子清洗機(jī)。
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