真空等離子處理器的功能： (1) 采用通用輸入電源，遠(yuǎn)程等離子源可在 380VAC 至 50 / 60HZ 范圍內(nèi)工作。 (2) 復(fù)雜的遠(yuǎn)程接口可用于啟動(dòng)發(fā)電機(jī)、設(shè)置和監(jiān)控輸出功率。

真空等離子設(shè)備特點(diǎn)：&BULL；易操作&BULL；精確氣流控制&BULL；全自動(dòng)&BULL；結(jié)合靈活多工藝設(shè)置&BULL；均勻穩(wěn)定等離子&BULL；集成計(jì)算機(jī)控制流程&BULL；遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)共享存儲(chǔ)真空等離子設(shè)備：系列真空等離子表面處理系統(tǒng)適用于實(shí)驗(yàn)室和小批量生產(chǎn)非常適合小零件的納米清潔、表面活化和表面改性。

移動(dòng)平臺(tái)等離子清洗機(jī)介紹：引進(jìn)德國(guó)技術(shù)，遠(yuǎn)程等離子源低溫，無(wú)靜電設(shè)備采用一體式未處理控制器控制系統(tǒng)和電源，具有高品質(zhì)壓力保護(hù)開(kāi)關(guān)和雙手動(dòng)和自動(dòng)啟停功能 旋轉(zhuǎn)并可直接與等離子槍頭配套，直徑加工寬度2MM-80MM可調(diào)，可遠(yuǎn)程控制，實(shí)現(xiàn)24小時(shí)運(yùn)行功能，維護(hù)方便。

& EMSP; & EMSP; 基于對(duì)等離子應(yīng)用技術(shù)和設(shè)備開(kāi)發(fā)的長(zhǎng)期研究，遠(yuǎn)程等離子源清洗系統(tǒng)我們充分利用歐美尖端技術(shù)，并通過(guò)與日本及海外知名研究機(jī)構(gòu)的技術(shù)合作，提高產(chǎn)能- 具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的耦合放電。適用于感應(yīng)耦合放電、遠(yuǎn)程等離子放電等多種放電類型的產(chǎn)品。特有的加工腔形狀和電極結(jié)構(gòu)，可滿足薄膜、織物、零件、粉末、顆粒等各種形狀和材料的表面處理要求。

遠(yuǎn)程等離子源

檢查真空等離子清洗機(jī)的真空泵。有了等離子清洗機(jī)，我們就走在了時(shí)代的前沿。應(yīng)用程序處于時(shí)代前沿。說(shuō)到等離子清洗機(jī)，作為一種新的高科技產(chǎn)品，應(yīng)用還是比較專業(yè)的。對(duì)此，我們來(lái)看看等離子清洗機(jī)的主要應(yīng)用優(yōu)勢(shì)。首先，如果您使用等離子清洗機(jī)清潔物品，清潔后物品將保持干燥。由于處于干燥狀態(tài)，無(wú)需干燥即可直接送至下道工序，非常方便，大大提高了整條流水線的工作能力。另外，由于等離子清洗機(jī)可以遠(yuǎn)程控制操作者，可以保證操作者的安全。

由于是干燥過(guò)程中的下一道工序，非常方便，整條流水線的工作效率大大提高。 2、另外，等離子清洗裝置允許員工遠(yuǎn)程操作，避免了員工安全問(wèn)題。 3、由于采用高頻等離子，可以深入物體內(nèi)部，進(jìn)行相應(yīng)的清洗工作。與一般洗衣機(jī)相比有很大的優(yōu)勢(shì)。無(wú)論物體的形狀如何，它現(xiàn)在都是干凈的。而且清潔度也很好。 4、利用它對(duì)物料表面進(jìn)行清洗，一般不需要輸送或排放清洗液，可以大大保障清洗環(huán)境的環(huán)保性。它還節(jié)省了一些處理。

作為電子加速的機(jī)理，當(dāng)電子與氬原子彈性碰撞并繞電場(chǎng)運(yùn)行時(shí)，電子的速度和能量增加，如果滿足上述條件，電子可以獲得電離能。 . , 即使在電場(chǎng)強(qiáng)度很弱的情況下也可以獲得電離能。使用這種機(jī)制，理想的電場(chǎng)頻率范圍通常在幾千 MHz 左右。有學(xué)者將這一機(jī)制延伸，認(rèn)為從壁面和陰極發(fā)射的二次電子加速后，進(jìn)入光放電區(qū)，成為屬于二次電子擴(kuò)散現(xiàn)象的額外電子源。

等離子源離子注入是一種新型、低成本、無(wú)透視的材料表面改性技術(shù)，已成功應(yīng)用于材料表面處理領(lǐng)域。由于施加在材料上的高電壓，等離子體中的離子穿透材料表面并與晶格原子碰撞，從等離子體中獲得足夠的能量，在材料表面的薄層中形成新的化合物?？梢宰?。新化合物的形成。金屬結(jié)構(gòu)。因此，等離子源離子注入工藝產(chǎn)生的薄膜性能優(yōu)良，膜基結(jié)合力強(qiáng)，顯著提高了精密部件的表面性能。

遠(yuǎn)程等離子源

等離子源離子注入是一種新型、低成本、無(wú)透視的材料表面改性技術(shù)，遠(yuǎn)程等離子源已成功應(yīng)用于材料表面處理領(lǐng)域。由于施加在材料上的高電壓，等離子體中的離子穿透材料表面并與晶格原子碰撞，從等離子體中獲得足夠的能量，在材料表面的薄層中形成新的化合物。可以做。新化合物的形成。金屬結(jié)構(gòu)。因此，等離子源離子注入工藝產(chǎn)生的薄膜性能優(yōu)良，膜基結(jié)合力強(qiáng)，顯著提高了精密部件的表面性能。

要求解的 W 通常是復(fù)數(shù) W = WR + IWI。如果 WI>0，遠(yuǎn)程等離子源則擾動(dòng)幅度隨 T 增加。也就是說(shuō)，它不穩(wěn)定。相反，如果 WI <0，則系統(tǒng)是穩(wěn)定的。 & EMSP; & EMSP; 造成微觀不穩(wěn)定的原因有很多。來(lái)自空間的不均勻性會(huì)導(dǎo)致漂移和不穩(wěn)定，例如密度梯度、溫度梯度、磁場(chǎng)梯度等。另一種類型的不均勻性是由于速度空間，例如速度、溫度和壓力的各向異性。此外，可能會(huì)導(dǎo)致微觀不穩(wěn)定性，例如波間相互作用。