惰性氣體，羧基和羥基親水性比較如氬或氦，由于它們惰性的化學(xué)性質(zhì)，不會(huì)與表面化學(xué)反應(yīng)結(jié)合或進(jìn)行表面化學(xué)反應(yīng)。相反，它們通過(guò)傳遞能量來(lái)破壞聚合物鏈中的化學(xué)鍵。中斷的聚合物鏈產(chǎn)生懸浮鍵，可與活性部分重新結(jié)合，導(dǎo)致顯著的分子重組和交聯(lián)。高分子表面懸浮鍵易于接枝，已被應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)技術(shù)。活化是等離子體化學(xué)基團(tuán)取代表面聚合物基團(tuán)的過(guò)程。等離子體打破聚合物中的弱鍵，用等離子體中的高活性堿、羧基和羥基取代。

由真空泵等離子形成的高電壓高頻率動(dòng)能，羧基和羥基親水性比較在噴嘴和受控輝光放電中形成低溫真空泵等離子，通過(guò)壓縮空氣將真空泵等離子噴射至工件表面，真空泵等離子與被處理物品表面層出現(xiàn)化學(xué)作用和物理變化，去除碳化氫類污垢。建立羥基、羧基等自由基團(tuán)，對(duì)各種涂層材料有促進(jìn)粘結(jié)的作用，優(yōu)化了粘結(jié)和油漆應(yīng)用。

等離子體發(fā)生器設(shè)備帶來(lái)的高壓、高頻能量，羧基和羥基親水性通過(guò)在噴嘴鋼管上輝光放電來(lái)激活和控制，形成低溫等離子體。等離子體與被加工物體表面接觸，在壓縮氣體的應(yīng)用中產(chǎn)生變化和化學(xué)反應(yīng)。清潔表面，去除氫的碳化氫污垢，如油脂、助劑等，或帶來(lái)腐蝕而非常粗糙，或形成致密的交聯(lián)層，或引入氧極性基團(tuán)(羥基、羧基)，兩者都促進(jìn)了各類涂料材料的應(yīng)用，并對(duì)膠粘劑和涂層進(jìn)行了優(yōu)化。

而這些特性在手機(jī)、電視、微電子、半導(dǎo)體、醫(yī)藥、航空、汽車等各個(gè)行業(yè)都得到了很好的應(yīng)用，羧基和羥基親水性比較解決了很多企業(yè)多年沒(méi)有解決的問(wèn)題。要解決的問(wèn)題。因此，等離子清潔劑不會(huì)洗掉所有的污垢，而是旨在去除某些物質(zhì)并修飾材料表面。。等離子表面處理設(shè)備可引入氨基、羧基等官能團(tuán)，用于醫(yī)用材料的表面處理。在等離子表面處理設(shè)備的影響下，很難附著許多活性原子結(jié)構(gòu)、自由基、不飽和鍵。塑料表面。等離子體中的活性粒子接觸形成新的活性官能團(tuán)。

羧基和羥基親水性比較

（C）形成新的官能團(tuán)，化學(xué)作用如果放電氣體中引入反應(yīng)性氣體，引入新的官能團(tuán)，如烴基、氨基、羧基等，在活化的材料表面會(huì)發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，這些官能團(tuán)都是活性基團(tuán)，明顯提高材料表面活性。。大家熟悉的知道等離子體進(jìn)行材料表面改性的方法有三種：1.等離子體聚合：材料暴露于聚合性氣體（有機(jī)氣體），等離子體表面會(huì)沉積一層聚合物，沉積一般啊是很薄的，并且對(duì)熱和化學(xué)作用穩(wěn)定，對(duì)基材有一定的粘附力。

每小時(shí)一臺(tái)等離子表面處理器，大大降低了成本。等離子脫鍍清洗機(jī)通過(guò)等離子輝光反應(yīng)保證脫鍍密度高，低溫等離子獲得更好的表面活化效果。清潔表面有機(jī)物、樹(shù)脂、灰塵、油脂、雜質(zhì)等，增加表面能量。材料經(jīng)改性后表面粗糙，蝕刻后表面凸出它增大，表面積增大。介紹了含有羥基、羧基等氧極性基團(tuán)的活性分子。等離子清洗機(jī)用于去電鍍表面處理，能有效去除有缺陷的涂層。用于玻璃蓋板、觸摸屏、防護(hù)片、光學(xué)材料、電子電路等工業(yè)鍍膜次品的修補(bǔ)。

等離子體清洗的過(guò)程中不使用化學(xué)試劑，所以不會(huì)造成二次污染，清洗設(shè)備可重復(fù)性強(qiáng)，所以設(shè)備的運(yùn)行成本比較低，而且操作靈活簡(jiǎn)單，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)金屬表面的整體或某些局部及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗；有些經(jīng)過(guò)等離子體清洗后的表面性能還可以得到改善，有助于金屬的后續(xù)加工應(yīng)用。等離子體清洗的機(jī)理 等離子體中處理存在著大量的氣體分子、電子和離子外，還存在大量受激發(fā)的中性原子、原子團(tuán)自由基及等離子體射出的光線。

常壓等離子體清洗的溫度比較高，但常壓等離子體大多安裝在流水線上，物料一個(gè)接一個(gè)通過(guò)，不會(huì)在噴槍下停留很長(zhǎng)時(shí)間。所以溫度太高了。如果停留時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，哪怕只有幾秒鐘，溫度也會(huì)急劇上升。也是因?yàn)闇囟雀?，所以一般易碎的東西都用真空機(jī)洗。真空等離子清洗機(jī)沒(méi)那么復(fù)雜。根據(jù)電源的頻率，以40kHz和13.56MHz為例：正常情況下，材料放入腔體工作，頻率為40kHz，一般溫度在65以下。而且，該機(jī)配備了強(qiáng)勁的散熱風(fēng)扇。

羧基和羥基親水性比較

典型的等離子體物理清洗工藝是氬氣等離子體清洗，羧基和羥基親水性氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng)，而是通過(guò)離子轟擊使表面清潔。以化學(xué)反應(yīng)為主的等離子清洗的優(yōu)點(diǎn)是清洗速度較高、選擇性好、對(duì)清除有機(jī)污染物比較有效，缺點(diǎn)是會(huì)在表面產(chǎn)生氧化物。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣、氫氣等離子清洗。通過(guò)等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?；顫姡菀着c碳?xì)浠衔锇l(fā)生，產(chǎn)生二氧化碳，一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。