不同等離子體產(chǎn)生的自偏壓不一樣，隧道內(nèi)的附著力減小超聲等離子體的自偏壓為 0V左右，射頻等離子體的自偏壓為250V左右，微波等離子體的自偏壓很低，只有幾十伏，而且三種等離子體的機(jī)制不同。超聲等離子體發(fā)生的反應(yīng)為物理反應(yīng)，射頻等離子體發(fā)生的反應(yīng)既有物理反應(yīng)又有化學(xué)反應(yīng)，微波等離子體發(fā)生的反應(yīng)為化學(xué)反應(yīng)。超聲等離子體清洗對被清潔表面產(chǎn)生的影響最大，因而實際半導(dǎo)體生產(chǎn)應(yīng)用中大多采用射頻等離子體清洗和微波等離子體清洗。
（3）在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，隧道內(nèi)的附著力為什么減小使氣體被擊穿，并通過輝光放電而發(fā)生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體完全籠罩在被處理工件，開始清洗作業(yè)。一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘。（4）清洗完畢后切斷高頻電壓，并將氣體及汽化的污垢排出，同時向真空室內(nèi)鼓入氣體，并使氣壓升至一個大氣壓。
原子團(tuán)等自由基與物體表面的反應(yīng)： 由于這些自由基呈電重型，隧道內(nèi)的附著力為什么減小存在壽命較長，而且在離子體中的數(shù)量多于離子，因此自由基在等離子體中發(fā)揮著重要作用，自由基的作用主要表現(xiàn)在化學(xué)反應(yīng)過程中能量傳遞的"活化"作用，處于激發(fā)狀態(tài)的自由基具有較高的能量，因此易于與物體表面分子結(jié)合時會形成新的自由基，新形成的自由基同樣處于不穩(wěn)定的高能量狀態(tài)，很可能發(fā)生分解反應(yīng)，在變成較小分子同時生成新的自由基，這種反應(yīng)過程還可能繼續(xù)進(jìn)行下去，最后分解成水、二氧化碳之類的簡單分子。
今天給大家普及一下等離子清洗電源的頻率知識，隧道內(nèi)的附著力減小40KHZ電源，也就是俗稱的中頻電源，簡單的說能量高，但等離子密度低。真空等離子清洗基本選用中頻電源。這是由于真空腔體尺寸大（通常大于 L，電極板數(shù)量較多，相對于射頻中頻來說是高輸出電源。5000W、10KW、20KW等本身更穩(wěn)定）產(chǎn)生的等離子體中的分子和離子具有高動能，高滲透性，強(qiáng)調(diào)物理反應(yīng)。
隧道內(nèi)的附著力減小
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因此，一方面需要較高的外加電壓才能在大氣壓下產(chǎn)生氣體擊穿；另一方面，即使在高外加電壓條件下發(fā)生氣體擊穿過程，在如此高的電場強(qiáng)度下，強(qiáng)烈的電子雪崩效應(yīng)也會使放電迅速進(jìn)入燈絲放電或電弧放電模式，因此很難獲得溫度接近室溫的均勻輝光放電等離子體。。等離子清洗機(jī)是利用等離子高能將等離子集中于等離子表面改性，或等離子表面處理的應(yīng)用。等離子體清洗是利用等離子體的高能量和不穩(wěn)定性。
隧道內(nèi)的附著力為什么減小
