PLC+上位機(jī)控制系統(tǒng)，硅膠蝕刻機(jī)器精確控制設(shè)備運(yùn)行，可根據(jù)客戶要求定制，滿足客戶需求;2 .維護(hù)成本低，方便客戶成本控制;3 .精度高，響應(yīng)快，操作性能好，兼容性好，功能完善，有專業(yè)的技術(shù)支持;產(chǎn)品均一率可達(dá)95%，節(jié)省人工，提高效率。本公司生產(chǎn)的清洗設(shè)備適用于印刷線路板、半導(dǎo)體IC、硅膠、聚合物、汽車電子、航空工業(yè)等行業(yè)的清洗。

印刷基材行業(yè):高頻板表面活化、多層板表面清洗、除垢、軟板、硬粘板表面清洗、除垢、軟板活化前加固。在集成電路領(lǐng)域:COB、COG、COF、ACF工藝，硅膠蝕刻設(shè)備用于線材、焊接前的清洗;在硅膠、塑料和聚合物領(lǐng)域的表面粗糙度、蝕刻和活化。。紡織印染行業(yè)——等離子表面清洗機(jī)的應(yīng)用:亞麻、絲綢、亞麻等原料一般透氣、穿著舒適，長(zhǎng)期以來(lái)受到眾多消費(fèi)者的青睞。

借助真空等離子清洗機(jī)可以提高硅膠的附著力:等離子體由大量自由電子和正離子組成，硅膠蝕刻宏觀上類似于電荷平衡電離氣體。等離子體是另一種聚集態(tài)——等離子體態(tài)，也被稱為物質(zhì)的第四態(tài)。等離子體中的電子從電場(chǎng)中獲得能量，成為自由的高能電子。當(dāng)它們與氣體中的原子和分子碰撞時(shí)，就會(huì)發(fā)生激發(fā)態(tài)分子和電離現(xiàn)象。原子核、正離子和游離基團(tuán)是高度不穩(wěn)定的化學(xué)性質(zhì)，容易發(fā)生通常不會(huì)發(fā)生的反應(yīng)，從而導(dǎo)致新化合物的形成。

等離子體可以通過(guò)單一的處理過(guò)程或多種處理的組合得到不同的用途。例如，硅膠蝕刻設(shè)備在等離子體中，通過(guò)化學(xué)合成等離子體產(chǎn)生新的化學(xué)物質(zhì)，或通過(guò)粒子聚合在表面沉積薄膜。。等離子清洗技術(shù)的成長(zhǎng)和發(fā)展也使得等離子清洗設(shè)備在工業(yè)活動(dòng)中的應(yīng)用越來(lái)越廣泛，下面和小編一起來(lái)看一下有哪些應(yīng)用呢?口腔領(lǐng)域:對(duì)硅膠成型材料和鈦植牙進(jìn)行預(yù)處理，提高其滲透性和相容性。3、使玻璃、塑料、陶瓷、高分子等材料表面活化，增強(qiáng)表面附著力、滲透性、相容性。

硅膠蝕刻

硅膠制品是一種耐熱橡膠，耐高溫，與其他材料相比，硅膠具有生物相容性，制成的制品相當(dāng)耐用，適用于食品、醫(yī)藥和工業(yè)等領(lǐng)域。但是硅膠表面容易被灰塵污染，廠家一般采用化學(xué)噴霧的方法，改善了硅膠產(chǎn)品的親水性表面，但是這種工藝不僅成本高，而且影響生態(tài)環(huán)境，危害人體健康，等離子表面活化設(shè)備工藝綠色環(huán)保不會(huì)影響。

——等離子清洗機(jī)在橡膠和塑料制品:我們有很多硅膠產(chǎn)品用于工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)一個(gè)連接表面粘結(jié)困難的現(xiàn)象,這主要是因?yàn)楣枘z產(chǎn)品,如聚丙烯,聚四氟乙烯塑料材料并非是負(fù)的,這類原料在沒(méi)有表面處理的情況下，包裝印刷、膠粘劑、涂層等都很差，甚至更加堅(jiān)硬。

Azure上的Graphcore IPU預(yù)覽現(xiàn)在開放注冊(cè)，致力于推動(dòng)NLP邊界和在機(jī)器智能領(lǐng)域開辟新領(lǐng)域的開放者可以優(yōu)先訪問(wèn)。摘自本文。硅膠表面具有表面能低、潤(rùn)濕能力差、結(jié)晶度高、非極性分子鏈、弱邊界層等特點(diǎn)。環(huán)保(安全)全水性油墨難以附著，包裝印刷和噴漆次品率極低。然而，大多數(shù)高粘性印刷油墨含有有毒的穩(wěn)定劑，如鉛。使用低溫等離子清洗機(jī)，可以得到玩具表面經(jīng)過(guò)包裝印刷、噴漆和粘接所需的表面張力。

那么為什么硅很難處理呢?因?yàn)橛醒鯕夥肿颖砻娴墓枘z,負(fù)電極和粉塵靜電感應(yīng)和積極的電極,塵埃和靜電感應(yīng)表面可以互相吸引,所以很難清理,表面和危害產(chǎn)品的外觀和實(shí)際使用效果。因此，經(jīng)過(guò)層層的測(cè)試結(jié)果后，低溫等離子清洗技術(shù)是處理硅膠表面層最合適的工藝，既能有效地處理表面層，又能改善硅膠的特性。等離子體清洗機(jī)的清洗原理是:主要是激活關(guān)鍵能量的交聯(lián)、材料表面轟擊的物理作用和形成新的官能團(tuán)的化學(xué)作用。

硅膠蝕刻

1、清洗光學(xué)器件、電子元件、清洗光學(xué)透鏡、電子顯微鏡等透鏡和載玻片，硅膠蝕刻設(shè)備去除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光刻膠物質(zhì)，清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體、寶石等;牙科領(lǐng)域:硅膠成型材料和鈦牙移植體的預(yù)處理，增強(qiáng)其滲透性和相容性;3、醫(yī)療領(lǐng)域:修復(fù)牙移植體表面預(yù)處理，增強(qiáng)其滲透性、粘附性和相容性，對(duì)醫(yī)療器械的消毒滅菌;5、去除金屬材料表面的氧化物;6、使玻璃、塑料、陶瓷、高分子等材料表面活化，增強(qiáng)表面附著力、滲透性、相容性;高分子材料表面改性。