這種分析過程通常用于半導(dǎo)體制造中的 EDP 監(jiān)控。圖2 下圖顯示了電容耦合等離子體激發(fā)凸塊源的典型腔室結(jié)構(gòu)和等離子體中的光譜輻射。上下電極通電，洛陽附著力強涂料店在哪一般頻率為13.56MHZ。所謂的暗鞘在每一面壁上形成，暗鞘通常被認為是絕緣體或電容器，因此可以通過電容器將功率傳遞給等離子體。
等離子表面清洗技術(shù)在IC封裝領(lǐng)域的應(yīng)用越來越廣泛：目前，洛陽附著力強涂料店在哪電子元件的清洗主要是等離子清洗。傳統(tǒng)的電子元器件采用濕法清洗，而電路板上的一些元器件如晶振等采用金屬外殼，清洗后元器件內(nèi)部的水分難以干燥。用水手動清洗時有異味。體積大，清洗效率低，浪費人力成本。集成電路或 IC 芯片是當(dāng)今電子設(shè)備的復(fù)雜組件。
等離子清洗機可用于清洗、蝕刻、活化、表面處理等，洛陽附著力強涂料店在哪可以選擇3種高頻發(fā)生器，40KHZ、13.56MHZ、2.45GHZ……等離子清洗機也叫等離子表面處理設(shè)備。會的。這是一種新的先進技術(shù)，它使用等離子來達到傳統(tǒng)清潔方法無法達到的效果。等離子清潔劑可用于清潔、蝕刻、活化、表面處理等。提供40KHZ、13.56MHZ和2.45GHZ三種高頻發(fā)生器，以適應(yīng)不同的清洗效率和清洗效果要求。
特別活躍，洛陽附著力促進劑反應(yīng)的具體產(chǎn)物有C2H6、C2H4、C2H2、一氧化碳、H2，可能的反應(yīng)機制有： (1) 生成氧種子CO2 + e → 一氧化碳 +0-(4-9) CO2 + e → 一氧化碳 + 0 + e (4-10) (2)產(chǎn)生甲基自由基甲烷 + 0- → CH3? + 0H- (4-11)甲烷 + O → CH3? + OH (4-12) (3)產(chǎn)生C2烴CH3 + CH3 → C2H6 (4-13) C2H6 + e → C2H5 + H + e (4-14) C2H6 + O → C2H5 + OH (4-15) 2C2H5 → C2H4 + C2H6 (4-16) C2H5 + CH3 → C2H4 + 甲烷 (4-17) (4) 產(chǎn)生一氧化碳CHX + O → HCHO + H (4-18) HCHO + O → OH + CHO (4-19) CHO + O → OH + 一氧化碳 (4-20)等離子清洗機 冷等離子作為一種有效的自由基引發(fā)方法已成功用于 CO2 氧化。
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等離子體清洗技術(shù)簡單、環(huán)保、清洗效果明顯，對盲孔結(jié)構(gòu)非常有效。等離子體清洗是指高度活化的等離子體在電場作用下定向運動，與孔壁鉆進污物發(fā)生氣固化學(xué)反應(yīng)。同時，產(chǎn)生的氣體產(chǎn)物和一些未反應(yīng)的顆粒由吸入泵排出。等離子體在HDI板盲孔清洗中一般分為三個步驟。
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