當氣體變稀時，氧等離子除膠機分子之間的距離和分子或離子的自由運動距離會更長。它們在正負場的作用下發(fā)生碰撞，形成等離子體。這種離子具有足夠的反應性和能量來破壞幾乎所有的化學鍵，從而在暴露的表面上引起化學反應。不同氣體的等離子體具有不同的化學性質(zhì)。例如，氧等離子體具有很高的氧化性能，可以將光刻膠氧化成氣體，達到清洗的目的。蝕刻氣體等離子體具有良好的各向異性，可以滿足蝕刻需要。

化學式表明典型的PE工藝是氧或氫等離子工藝。在與氧等離子體發(fā)生化學反應后，臺式射頻氧等離子體清潔器非揮發(fā)性有機化合物轉化為揮發(fā)性 CO2 和水蒸氣。去除污垢并清潔表面。離子氫用于通過化學反應去除金屬表面的氧化層，清潔金屬表面。反應氣體在一定條件下電離形成的高活性反應顆粒與待清潔表面發(fā)生化學反應，產(chǎn)物是一種可去除的揮發(fā)性物質(zhì)，即洗滌氣體的化學成分。在成分方面，選擇正確的反應氣體成分非常重要。

發(fā)生活性氧離子化學反應，臺式射頻氧等離子體清潔器形成CO、CO2、H2O等分子結構，與表面分離，達到清潔表面的目的。氧氣主要用于高分子材料的表面活化和有機污染物的去除，但不適用于易氧化的金屬表面。處于真空等離子體狀態(tài)的氧等離子體看起來是藍色的，類似于局部放電條件下的白色。放電環(huán)境中的光線比較亮，用肉眼觀察可能真空室內(nèi)沒有放電。 2 氫 氫與氧相似，被歸類為高活性。氣體可以使表面恢復活力和清潔。

* 生物芯片和微流控芯片的清潔。 * 清潔貼有凝膠的電路板。 * 高分子材料的表面改性。 * 牙科材料、人工植入物、醫(yī)療器械的殺菌消毒。 * 提高用于粘合光學元件、光纖、生物醫(yī)學材料、航空航天材料等的粘合劑的粘合性和強度。等離子清潔器產(chǎn)品特點： * 緊湊型臺式設備，臺式射頻氧等離子體清潔器無射頻輻射，符合 CE 安全標準。 * 功率可以3檔調(diào)節(jié)：低、中、高。 * 提供 GD-5、GD-30 和 GD-125 三種型號。

臺式射頻氧等離子體清潔器

等離子清洗機在織物印染行業(yè)應用中有哪些獨特優(yōu)勢？等離子清洗機在織物印染行業(yè)應用中有哪些獨特優(yōu)勢：等離子清洗機體積小、速度快、無損、無化學污染的臺式高頻氣體放電清洗機主要是表面超強的，應用于很多需要清洗的領域也用于對某些材料的表面進行化學改性。等離子清洗劑在用液體清洗劑清洗時可以有效避免二次污染。

在分子水平上。在某些條件下，您還可以更改對象外表面的屬性。真空作為清潔劑可以有效避免物體的再污染。等離子清潔劑不僅可以提高物體的附著力、相容性和潤濕性，還可以（殺菌）（殺菌）細菌。如今，等離子清潔器廣泛應用于光學、光電子學、電子學、材料科學、聚合物、生物醫(yī)學和微流體領域。

這種清洗方法是一種環(huán)保的綠色清洗方法，因為ODS是一種有害溶劑，清洗后不會產(chǎn)生有害污染物。隨著世界變得更加環(huán)保，這一點變得更加重要。第四，等離子清潔器使用無線電范圍內(nèi)的高頻來產(chǎn)生不同于直射光的等離子，例如激光。不需要考慮被清洗物體的形狀，因為等離子體的方向性不是很強，可以穿透物體內(nèi)部的小孔或凹坑來完成清洗過程。此外，這些難清洗部位的清洗效果等同于或優(yōu)于氟利昂清洗。五。等離子清洗可用于顯著提高清洗效率。

這避免了電極反應的影響，特別是對于在腐蝕性氣體或封閉環(huán)境中需要高純度等離子體的反應。這種結構具有極好的優(yōu)點。 DBD放電裝置除了平行板結構外，還具有線結構。和表面結構。圖 1-5 DBD 放電反應器結構 等離子清潔器 大氣壓 DBD 放電等離子體通常表現(xiàn)出絲狀或輝光放電特性。當在電極上施加高電壓時，陰極附近的氣體在電場的作用下被電離。產(chǎn)生一個電子。

臺式射頻氧等離子體清潔器