等離子表面處理機的超低溫深反應離子刻蝕工藝采用平面大縱橫比結(jié)構(gòu)圖案，極耳等離子體蝕刻機器使用-100℃以下連續(xù)O2等離子刻蝕和SF6等離子刻蝕產(chǎn)生的副產(chǎn)物保護層。 .空間。低溫刻蝕工藝的主要機理是獨立控制硅溝槽底部和溝槽側(cè)壁的刻蝕反應，改變陰極電壓以降低硅片基板的溫度以進行更高的硅刻蝕。那是。可以獲得更高的硅蝕刻速率。高硅光刻蝕選擇性。

低溫等離子處理光纖裝置對PBO光纖表面和未處理PBO光纖表面的影響是光滑的。 PBO光纖的表面是由于等離子處理過的PBO光纖表面的蝕刻作用，極耳等離子體蝕刻增加了表面粗糙度。這也證實了處理后的PBO纖維的比表面積增加。提高 PBO 纖維的潤濕性。用大氣低溫等離子體處理PBO纖維提高了PBO纖維的潤濕性。低溫等離子處理后的PBO 纖維吸力增加，接觸角減小，表面被蝕刻，粗糙度增加，表面積增加，纖維潤濕速度加快。

使用等離子發(fā)生器進行表面處理，極耳等離子體蝕刻機器提高了原材料表層的潤濕性，從而改善了原材料的涂層等性能，提高了原材料的附著力和內(nèi)聚力，并且（高效）可去除.增強有機（有機）污染物和原料表層的親水性。等離子發(fā)生器用塑料玩具的表面處理：可用于表面層改性、粘合強度、涂層和印刷。塑料玩具鐘由于面漆是化學惰性的，如果沒有特殊的表面處理，很難用通用粘合劑粘合和印刷。等離子發(fā)生器主要用于塑料玩具表層的蝕刻（活化）、接枝、聚合等。

但在塑料薄膜增強軟單板的制造過程中，極耳等離子體蝕刻機器界面粘合性能較差，易卷曲變形，受高溫熱壓等影響，限制了工業(yè)化生產(chǎn)和推廣。表面等離子體處理設(shè)備 等離子體是由基態(tài)和激發(fā)態(tài)的電子、離子和中性粒子組成的氣體混合物，在放電過程中產(chǎn)生大量離子，使材料表面發(fā)生物理和化學表面化。合格。它的優(yōu)點是清潔高效。用于等離子體重整的低溫表面等離子體處理設(shè)備可用于通過激發(fā)原子和分子、自由基和離子以及等離子體。

極耳等離子體蝕刻

常壓等離子設(shè)備技術(shù)參數(shù)如下（）： 輸入電源：AC220V，PE.50HZ（±20） 高壓線長度：>170CM（可定制） 噴槍口徑：20-50MM 工作環(huán)境溫度： <42℃相對溫度≤40℃RH最大功率：≤800W（可調(diào)）輸入氣源壓力：≥0.4MPA或≥0.3MPA頻率：25KHZ輸出工作壓力：15-20KPA（可調(diào)）總主機：約12KG控制方式：內(nèi)部模擬控制（可與現(xiàn)有自動化系統(tǒng)集成啟動短路信號） 主機尺寸：130MM（長）*240MM（寬）*300MM（高）噴嘴加工寬度：直噴類型：2MM、4MM、10MM；旋轉(zhuǎn)類型：30、50、80MM 加工高度：4-15MM 火焰溫度：40℃-60℃ 金屬等材料可以增加表面能。

..整個清洗過程的成本可以通過使用昂貴的有機溶劑來降低，但是清洗力還是很高的，只需要幾分鐘就可以完成清洗。第三，適用范圍廣也是常壓等離子清洗設(shè)備的一大優(yōu)勢。您可以有效地清洗任何原材料，無論是金屬、半導體還是氧化物，并為對象設(shè)置清洗操作。部分或全部清潔也非常方便。此外，還可以提高被清洗物的表面性能，例如提高表面的潤濕性和附著力。大氣壓等離子表面處理設(shè)備具有上述諸多優(yōu)點，在各個領(lǐng)域中脫穎而出。

表面清潔可以定義為去除吸附在表面上的非必要外來物質(zhì)的清潔過程，這些外來物質(zhì)會對產(chǎn)品的工藝流程和性能產(chǎn)生不利影響。清潔對于先進制造至關(guān)重要工藝步驟。工業(yè)清洗從工件表面去除多余的材料，最大限度地減少成本和環(huán)境影響。清潔目標包括提高涂層對表面的附著力以及提高涂漆和印刷產(chǎn)品的質(zhì)量。

改善表面潤濕性和薄膜附著力等表面功能在許多新工藝中發(fā)揮著重要作用。等離子清洗后的材料表面無油污，無需再加工，提高了整個工藝的加工效率。操作員可以避免有害溶劑的損壞。因此，它被完全（完全）洗滌。清潔物品不需要過多考慮形狀，也可以處理多種材料。特別適用于不耐高溫且不含溶劑的材料。因此，等離子清洗技術(shù)受到了極大的關(guān)注。等離子清洗機應用于印刷/包裝、汽車制造、生物醫(yī)藥、精密電子設(shè)備等行業(yè)，包括醫(yī)療器械領(lǐng)域。

極耳等離子體蝕刻

隨著電壓的增加和電源頻率的增加，極耳等離子體蝕刻處理強度變?yōu)椋禾幚硇Ч?，因為它高，但是如果電源頻率太高或電極間隙太寬，電極之間會發(fā)生過多的離子碰撞，會產(chǎn)生不必要的能量。如果電極間距過小，會導致感應損耗和能量損耗。當加工溫度高時，表面特性迅速變化。處理時間越長，極性基團越多，但如果處理時間過長，表面可能會產(chǎn)生分解產(chǎn)物。冷等離子體裝置 [5] 在密閉容器中安裝兩個電極以產(chǎn)生電場，并使用真空泵實現(xiàn)一定程度的真空。

其次，極耳等離子體蝕刻機器高濃度的環(huán)氧乙烷與空氣混合具有爆炸性，通常使用12%的環(huán)氧乙烷和88%的氟氯烴的混合物，但氯氟烴對地球臭氧層的破壞很嚴重，因此會造成嚴重的破壞。上述問題的存在限制了環(huán)氧乙烷滅菌的應用，同時也促進了其他更先進的醫(yī)用滅菌技術(shù)的研究和推廣。基于以上原因，我們正在進行低溫等離子滅菌技術(shù)的研究。低溫等離子滅菌技術(shù)的主要特點如下。