3. 在封閉的房間內(nèi)操作不需要特殊的職業(yè)安全條款。 ④ 由于不需要干燥，有機(jī)硅助劑對(duì)附著力的影響因此減少了能源消耗。 ⑤ 產(chǎn)生的廢棄物量少。少量氣體，如 CO2 或 H2O。需要指出的最重要的一點(diǎn)是不會(huì)發(fā)生濺射。有機(jī)物的純化只需要與活性氧發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。碳?xì)浠衔锓謳讉€(gè)階段依次被破壞，最終形成的 CO2 和 H2O 氣體由真空泵排出。無(wú)機(jī)物質(zhì)不與工藝氣體發(fā)生反應(yīng)，無(wú)法可靠去除。

6、操作成本低全自動(dòng)操作，有機(jī)硅助劑十附著力可連續(xù)工作24小時(shí)，無(wú)需人工護(hù)理，操作功率低至500W。等離子清洗技術(shù)越來(lái)越成熟，也應(yīng)用于越來(lái)越多的企業(yè)，幫助企業(yè)提高產(chǎn)品質(zhì)量和生產(chǎn)效率，如果對(duì)等離子清洗機(jī)有問(wèn)題想咨詢(xún)，可以直接聯(lián)系【】在線(xiàn)客服!。目前，國(guó)內(nèi)外企業(yè)利用低溫等離子技術(shù)在環(huán)保方面的應(yīng)用，開(kāi)發(fā)出了“低溫等離子有機(jī)廢氣凈化設(shè)備”、“低溫等離子廢水凈化設(shè)備”和“低溫等離子汽車(chē)尾氣凈化技術(shù)”。

(2)有機(jī)分子受高能電子碰撞激發(fā)，有機(jī)硅助劑對(duì)附著力的影響原子鍵分解，形成小碎片基團(tuán)和原子。 (3)·O、·OH、·HO2與激發(fā)原子、有機(jī)分子、斷裂基團(tuán)、其他自由基等發(fā)生一系列反應(yīng)，有機(jī)分子最終被氧化成CO、CO2，分解成H2O .處理后組件將通過(guò)并旋轉(zhuǎn)變成SO3、NOX、CO2、H2O等小分子。由于產(chǎn)品濃度極低，對(duì)周?chē)髿饪山邮?，無(wú)二次污染。 2、工藝流程等離子除臭工藝流程如圖所示。

在所有這些清潔過(guò)程中，有機(jī)硅助劑十附著力碳?xì)浠衔锖突闹g的結(jié)合被削弱，獲得的能量將這些有機(jī)復(fù)合物與基材分離。一旦從（有機(jī)）化合物的分子組中分離出來(lái)，它們就會(huì)被惰性氣體除去。光照射、中性粒子流和等離子體產(chǎn)生的帶電粒子的影響相結(jié)合鍵的斷裂提供能量。這種能量首先被碳?xì)浠衔镂?，然后在各種形式的二次過(guò)程中消散。正是這些各種形式的二次加工，達(dá)到了表面清潔的效果。

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一方面，等離子體與要清潔的物體表面相互作用，等離子體或等離子體活化的化學(xué)活性物質(zhì)，用于與材料表面的污垢進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)，如與等離子體中的活性氧和材料表面的有機(jī)物發(fā)生氧化反應(yīng)。等離子體與材料表面的有機(jī)污物作用，將有機(jī)污物分解成二氧化碳、水等。等離子體用于修飾或清潔材料時(shí)，通常采用低溫等離子體，氣體溫度不超過(guò)。

在等離子清洗機(jī)清洗過(guò)程中，氧氣轉(zhuǎn)變?yōu)楹踉幼杂苫牡入x子體，激發(fā)態(tài)的氧氣分子以及電子等粒子，這類(lèi)等離子體與固體表面的反應(yīng)可分為物理反應(yīng)(離子轟擊)和化學(xué)反應(yīng)，物理反應(yīng)機(jī)制是活性粒子轟擊待清洗表面，使污染物脫離表面排出，化學(xué)反應(yīng)機(jī)制是O活性粒子將有機(jī)物氧化為水和二氧化碳分子，然后從表面清除。 用O2作等離子清洗機(jī)的清洗氣體，在處理Ag72Cu28焊料具有明顯的可行性。

正是由于圓片清洗是半導(dǎo)體制造工藝中很重要、頻繁的工步,而且其工藝質(zhì)量將直接影響到器件的成品率、性能和可靠性,所以國(guó)內(nèi)外各大公司、研究機(jī)構(gòu)等對(duì)清洗工藝的研究一直在不斷地進(jìn)行。等離子體清洗作為一種先進(jìn)的干式清洗技術(shù)，具有綠色環(huán)保等特點(diǎn)，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，等離子清洗機(jī)也在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用越來(lái)越多。

電暈等離子體處理器是一種通過(guò)蝕刻兩個(gè)電極并將它們放置在密閉容器中以形成電磁場(chǎng)來(lái)產(chǎn)生等離子體的設(shè)備。借助真空泵達(dá)到一定的真空度，蒸汽變得越來(lái)越稀薄，分子間距和分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離，也在電磁場(chǎng)的影響下越來(lái)越長(zhǎng)，碰撞。它形成等離子體，同時(shí)產(chǎn)生輝光。等離子體在電磁場(chǎng)中運(yùn)動(dòng)，撞擊待處理物體的表面，達(dá)到表面處理、清潔、腐蝕的（效果）。

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3、電子回旋共振等離子體裝置：電子回旋共振等離子體蝕刻機(jī)利用高頻微波產(chǎn)生等離子體。在磁場(chǎng)的作用下，有機(jī)硅助劑對(duì)附著力的影響電子的回轉(zhuǎn)半徑遠(yuǎn)小于離子的回轉(zhuǎn)半徑，所以電子受磁場(chǎng)的約束，繞著磁力線(xiàn)旋轉(zhuǎn)。相反，離子獨(dú)立移動(dòng)而不會(huì)受到顯著影響。電子回旋頻率由磁場(chǎng)強(qiáng)度決定。對(duì)于某些應(yīng)用的大功率微波，當(dāng)微波頻率與電子回旋頻率相匹配時(shí)，電子發(fā)生共振，從而獲得磁場(chǎng)傳輸?shù)奈⒉芰?。假設(shè)微波頻率是固定的，磁力線(xiàn)在反應(yīng)室中從上到下發(fā)散。