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在設(shè)計真空等離子設(shè)備的反應(yīng)室和電極時,附著力交叉切割測定法下載要與配套供應(yīng)商充分溝通相關(guān)技術(shù)參數(shù),以滿足等離子清洗機的配套要求;2 .真空等離子設(shè)備安裝時,應(yīng)盡量靠近反應(yīng)腔和電極,縮短連接時間,降低功率損失;氣體流量、真空度、加工產(chǎn)品的材質(zhì)、數(shù)量等因素都可能影響阻抗匹配,應(yīng)根據(jù)實際情況進行調(diào)整。。影響等離子清洗效果的因素很多,其中最重要的是工頻、工作壓力、工作氣體類型和清洗時間。
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根據(jù)一些數(shù)據(jù),對等離子清洗機效率的研究使用不同公司的不同產(chǎn)品類型的等離子清洗機。這增加了鍵合線的強度,同時也提高了設(shè)備??的可靠性。使用 Ar 等離子體,如果射頻功率為 200W-600W,氣壓為 mt-120mt 或 140mt-180mt,則將樣品放在接地板上,洗滌 10-15 分鐘。 - 使用封裝的等離子清洗機可獲得良好的結(jié)果。清洗效果(效果)和粘合強度,實驗使用直徑為25μm的金線鍵合線。
Crf等離子體處理器功率密度對C_2烴中甲烷和CO_2的轉(zhuǎn)化及CO產(chǎn)率的影響;CRF等離子體處理器功率密度對CH和CO2轉(zhuǎn)化率、C2烴和CO產(chǎn)率的影響表明,CH和CO2轉(zhuǎn)化率隨功率密度的增加而增加,即增加CRF等離子體處理器功率,降低原料氣流量,即增加功率密度,有利于提高CH和CO2轉(zhuǎn)化率。當功率密度為2200kJ/mol時,甲烷和CO2的轉(zhuǎn)化率分別為43.6%和58.4%。
對于電子來說,這個能量對應(yīng)的溫度是幾萬度(K),而弟子因為質(zhì)量大,很難被電場加速,所以溫度只有幾千度。由于氣體顆粒溫度低(具有低溫特性),這類等離子體被稱為低溫等離子體。當氣體處于高壓狀態(tài),從外界獲得大量能量時,粒子間的碰撞頻率很高;增加,各種粒子的溫度基本相同,即Te與Ti和Tn基本相同。我們稱這種條件下得到的等離子體為高溫等離子體,太陽在自身邊界就是高溫等離子體。
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