C2烴選擇性結(jié)果與鑭系催化劑對C2烴收率的影響相比，邊滾邊滑的附著力大不大兩者的順序大致相同，盡管La2O3/Y-Al2O3催化劑與電漿清洗機等離子體共同應(yīng)用下甲烷轉(zhuǎn)化率較低，但由于C2烴選擇性高于70%，所以C2烴收率高于其他稀土催化劑。這與La2O3催化劑在單純催化條件下的高C2烴選擇性較為一致。不過鑭系催化劑對C2烴產(chǎn)物分布影響不大，C2H2是主要的C2烴產(chǎn)物。。
由于大氣壓下等離子體高能電子能的降低，邊滾邊滑的附著力大不大C-H進(jìn)一步斷裂不利于碳沉積的減少和C2烴選擇性的增加。增加放電空間和降低高能電子平均能量的共同作用是CH4轉(zhuǎn)化率降低，C2烴選擇性提高，C2烴產(chǎn)率變化不大。。大氣壓等離子清洗機處理器有四大優(yōu)點等離子清洗機設(shè)備廣泛應(yīng)用于電子/手機/電視/半導(dǎo)體等專業(yè)領(lǐng)域。不同行業(yè)或原料所使用的等離子表面處理設(shè)備類型也有所不同。
自動模式：預(yù)置自動模式：適用于點火位置與匹配位置相差較大的系統(tǒng)1.根據(jù)需要連接系統(tǒng)2.切換到預(yù)設(shè)、自動、運行3.在自動狀態(tài)和預(yù)設(shè)狀態(tài)下，邊滾邊滑的附著力大不大關(guān)閉射頻，調(diào)整Ca Cb的位置，使其處于點火位置4.打開射頻5.自動匹配保持狀態(tài)下的自動模式：適用于點火位置與匹配位置相差不大的系統(tǒng)1.根據(jù)需要連接系統(tǒng)2.切換到保持、自動、運行3.打開射頻。
常用的有氫氣、氧氣、氬氣等。每種氣體的性質(zhì)不同，邊滾邊滑的附著力大不大所能達(dá)到的效果也不同。經(jīng)常使用混合氣體。大氣壓等離子常用于普通壓縮空氣，當(dāng)然也可以連接氮氣。例如，在電暈機上，如果您有特殊要求，可以連接到氮氣處理。國內(nèi)很多公司都做不到。這是一個過程，但好消息是東信可以做到。三是清潔溫度。雖然大氣等離子清洗的溫度比較高，但大氣等離子主要安裝在流水線上，物料一個個通過，不會長時間停留在噴槍下。
附著力大于等于5級
等離子體處理過程包括化學(xué)反應(yīng)和物理反應(yīng)?；瘜W(xué)過程:在化學(xué)等離子體過程中，自由基與被清洗物體表面的元素發(fā)生化學(xué)反應(yīng)的反應(yīng)。這些反應(yīng)的產(chǎn)物是非常小的、易揮發(fā)的分子，可以用真空泵泵出。在有機清潔應(yīng)用中，主要的副產(chǎn)品通常包括水、一氧化碳和二氧化碳?；诨瘜W(xué)反應(yīng)的等離子體清洗，清洗速度快，選擇性好，是去除有機污染物最有效的。缺點是氧化發(fā)生在表面。
氣體團(tuán)簇在電子的轟擊下，可以電離化，而電離化的氣體團(tuán)簇在電場的作用下獲得很大的動能，也可以在磁場的作用下進(jìn)行過濾，進(jìn)而得到能量分布更為集中的氣體團(tuán)簇離子束。等離子表面處理機氣體團(tuán)簇離子束在加速電極的作用下可以獲得很高的能量，在一個局部區(qū)域形成較高的能量密度，在目標(biāo)材質(zhì)表面附近激發(fā)很多種物理和化學(xué)反應(yīng)。但是團(tuán)簇中每個粒子的速度相間，每個粒子的平均能量很低。
電荷集在電荷運動軌跡未到達(dá)的地方聚集，直接導(dǎo)致電荷也被電離。之后，霧狀區(qū)域內(nèi)的電荷載流子也隨之崩塌，成為離子軌道。這種離子軌道有很好的導(dǎo)電性，就是電流流到電路接地端時釋放出電荷。在這一區(qū)域發(fā)生放電之后，plasma軌道消失，或者沿著一個特定的方向移動到其他區(qū)域，這個區(qū)域隨后就被充電。當(dāng)發(fā)光球體內(nèi)部有足夠的電流時，離子軌跡會一直存在。。汽車業(yè)的發(fā)展，對性能的規(guī)定也在持續(xù)增強。
應(yīng)用等離子清洗機,起源于20世紀(jì)初,與高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,其應(yīng)用越來越廣泛,已在許多高科技領(lǐng)域,在狀態(tài)的關(guān)鍵技術(shù),等離子清洗技術(shù)行業(yè)在經(jīng)濟(jì)和人類文明最偉大的效果,第一電子信息產(chǎn)業(yè)，特別是半導(dǎo)體和光伏產(chǎn)業(yè)。等離子清洗機已經(jīng)應(yīng)用到各種電子元器件的制造中，可以肯定的是，沒有等離子清洗機及其清洗技術(shù)，就不會有今天如此發(fā)達(dá)的電子、信息和通信行業(yè)。
邊滾邊滑的附著力大不大
