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2.在線式和手拉門式真空等離子清洗機真空泵控制方式 真空等離子清洗機屬在線式的和手拉門式的很為常見，等離子體刻蝕及其在大規(guī)模集成電路制造中的應(yīng)用所使用的真空泵有一個泵的也有兩個泵的，都是通過觸摸屏進行操作控制，控制模式分手動控制和自動控制。 2-1手動控制方式 手動控制的原理和上述實驗性的真空等離子清洗機的基本類似，按下相應(yīng)的按鈕即真空泵開啟，不同之處在于一個是通過硬件按鈕操控，一個是通過觸摸屏里面的虛擬按鈕操控。

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等離子體刻蝕及其在大規(guī)模集成電路制造中的應(yīng)用

材料表面的物理和化學性質(zhì)。它的物理和化學性質(zhì)不改變。這些優(yōu)勢使低溫等離子技術(shù)成為提高復(fù)合材料界面結(jié)合效果的重要工具。低溫等離子表面處理技術(shù)對碳纖維表面處理效果明顯。在碳纖維表面形成極性官能團的效果與陽極氧化碳纖維表面處理的效果相當。低溫等離子蝕刻效果碳纖維表面優(yōu)于陽極氧化碳纖維，表面處理效果明顯。。

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等離子清洗機（Plasma Cleaner）又被稱為等離子蝕刻機、等離子去膠機、等離子活化機、Plasma清洗機、等離子表面處理機、等離子清洗系統(tǒng)等。

大粒徑污漬粘附在腔壁、電極和支架上。腔壁上有一層“灰”，腔底脫落嚴重。 2.電極和托盤支架的維護和翻新：長期使用后，電極和電極上會附著一層氧化層，碳氫化合物基材料經(jīng)過等離子體處理。在托盤支架和電極上放置一段時間后，射頻導電棒上會積聚一層薄薄的碳氫化合物殘留物，這些殘留物和氧化層無法用酒精去除。焊條和托盤的維修保養(yǎng)應(yīng)根據(jù)附件的數(shù)量來保證去膠的穩(wěn)定性。清洗劑要求：氫氧化鈉、硫酸、自來水、蒸餾水。

等離子體刻蝕及其在大規(guī)模集成電路制造中的應(yīng)用

壓縮機也被稱為“第二動力源”，等離子體刻蝕及其在大規(guī)模集成電路制造中的應(yīng)用是一種多用途的過程性氣源；用于工業(yè)的瓶裝壓縮氣體通常盛裝在管制氣瓶中，盛裝的氣體壓力一般為13-15MPa，其優(yōu)點是節(jié)省空間、安全和方便運輸。在氣體調(diào)壓方式和plasma等離子去膠機使用方法上也有一些小技巧。控制氣壓對plasma等離子去膠機的正常運行非常重要，常見的氣體減壓方式有氣瓶減壓閥、氣動調(diào)壓閥和管道節(jié)流閥。

plasma等離子清洗機等離子清洗機應(yīng)用環(huán)境：在等離子設(shè)備中使用正確的氣體以獲得所需的粘合性或印刷性非常重要。 有豐富的等離子活化項目經(jīng)驗，等離子體 去膠可為不同材料的客戶提供優(yōu)質(zhì)服務(wù)。氫被用在聚四氟乙烯產(chǎn)品中，而氮通常是混合在一起形成氫氮的特殊混合。塑膠產(chǎn)品經(jīng)常使用氧氣。在處理金屬時，我們通常加入氬氣以防止氧化。在plasma等離子清洗機等離子體表面改性中，常采用氧和氬。